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특허 상세정보

Electrochemical treating method such as electroplating and electrochemical reaction device therefor

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C25D-005/00    C25D-017/00   
미국특허분류(USC) 205/088; 205/705; 205/722; 204/225; 204/242; 204/275.1
출원번호 US-0070516 (2001-07-30)
국제출원번호 PCT/JP01/06525 (2001-07-30)
국제공개번호 WO02/16673 (2002-02-28)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Jordan and Hamburg LLP
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 0
초록

A novel method of electrochemical treatment such as electroplating, etc. and an electrochemical reaction apparatus thereof which is high in reactability and able to be electrochemically reacted efficiently, which is small or zero in amount of generation of liquid waste such as electrolytic solution and cleaning liquid and therefore, amicable to the environment, and in which it is no more required to clean the electrode, etc. with cleaning liquid after reaction. Electrochemical reaction is executed in a reaction vessel ( 6 ) containing matter ( 5 ) which ...

대표
청구항

1. A method of electrochemical treatment comprising introducing an electrode, a substance which is in a subcritical state, and small amounts of electrolytic solution and, for emulsification purpose, surfactant into a reaction vessel such that said electrode is not in contact with said electrolytic solution, thereafter shifting said substance into a supercritical state, and electrolyzing said electrolytic solution thereby to effect electrochemical reaction, and said electrolytic solution being in uniformly emulsified condition when said electrochemical re...