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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0950013 (2001-09-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 28 |
Chemical vapor deposition apparatus and method are provided with external metal halide gas generators that reduce leakage of air into the generators so as to improve efficiency of use of the metal charge residing in each generator.
1. A method of chemical vapor deposition, comprising flowing coating gas into in a preheat conduit disposed in and along a length of a heated coating chamber, heating said coating gas as it flows through said preheat conduit, and discharging the preheated coating gas into a gas distribution conduit
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