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Method of assembling a silicon carbide high temperature anemometer 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/00
출원번호 US-0637083 (2003-08-05)
발명자 / 주소
  • Okojie, Robert S.
  • Fralick, Gustave C.
  • Saad, George J.
출원인 / 주소
  • The United States of America as represented by the Administrator of the National Aeronautics and Space Administration
대리인 / 주소
    Stone Kent N.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 12

초록

A high temperature anemometer includes a pair of substrates. One of the substrates has a plurality of electrodes on a facing surface, while the other of the substrates has a sensor cavity on a facing surface. A sensor is received in the sensor cavity, wherein the sensor has a plurality of bondpads,

대표청구항

1. A method for assembling an anemometer, comprising:providing a cantilever beam having a plurality of bond pads on one side thereof:providing a first substrate and a second substrate, each said substrate being of the same material as said cantilever beam;etching said first substrate with a pluralit

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Eiermann Kurt (Pfungstadt DEX) Kolb ; deceased Franz (late of Hanau DEX by Elizabeth Kolb ; executrix), Apparatus for measuring the velocity of gases.
  2. Djorup Robert S. (20 Lovewell Rd. Wellesley MA 02181), Constant temperature anemometer.
  3. Djorup Robert S. (Wellesley MA), Directional hot film anemometer transducer.
  4. Motycka Jiri (Etobicoke CAX), Drag anemometer.
  5. Zhang Xia ; McIntyre David G. ; Tang William Chi-Keung, Fabrication method for encapsulated micromachined structures.
  6. Moon Eric D. ; Wahl Robert E., Method for canceling the dynamic response of a mass flow sensor using a conditioned reference.
  7. Barron Carole C. ; Fleming James G. ; Montague Stephen, Method for integrating microelectromechanical devices with electronic circuitry.
  8. Fukada Tsuyoshi (Kariya JPX), Method of forming a semiconductor strain sensor.
  9. Takahashi Hiroshi,JPX ; Shimizu Nobuhiro,JPX ; Shirakawabe Yoshiharu,JPX ; Ichihara Susumu,JPX ; Despont Michel,CHX, Semiconductor strain sensor and scanning probe microscope using the semiconductor strain sensor.
  10. Sparks Douglas Ray (Kokomo IN), Silicon flow sensor.
  11. Kubena, Randall L.; Little, Michael J.; Hackett, Leroy H., Single crystal dual wafer, tunneling sensor and a method of making same.
  12. Clark John Paul ; Jones Terence V.,GBX, Turbulent spot flowmeter.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Nakamura, Masateru, Method of production of silicon carbide single crystal.
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