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Compositions and methods for odor and fungal control in ballistic fabric and other protective garments 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • A61L-009/14
출원번호 US-0932708 (2001-08-17)
발명자 / 주소
  • DuVal, Dean Larry
  • Ofosu-Asante, Kofi
  • Orr, Michael Joseph
출원인 / 주소
  • Procter & Gamble Company
대리인 / 주소
    Wei-Berk, Caroline
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 3

초록

The present invention relates to a composition and methods for odor and fungal control in ballistic fabrics and other protective garments. The composition is essentially free of any material that would soil or stain fabric or react negatively with the ballistic fabric or other protective gear. The c

대표청구항

1. A method for reducing or removing odors and fungal growth on and/or in a protective garment comprising ballistic fabrics, the method comprises the step of contacting the garment with a composition comprising: (a) front about 0.05% to about 5% by weight of the composition, a silicone surfactant;

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Thomas Sherrie L. ; Lane Paul F., Method composition and system for removing.
  2. Gayle Marie Frankenbach ; Toan Trinh ; Mary Vijayarani Barnabas ; Alessandro Corona, III ; John Henry Shaw, Jr. ; John William Smith ; Donald Ray Brown ; Timothy Roy Nijakowski ; Bruno Albert, Polymer compositions having specified PH for improved dispensing and improved stability of wrinkle reducing compositions and methods of use.
  3. Woo Ricky Ah-Man ; Trinh Toan ; Cobb Daniel Scott ; Schneiderman Eva ; Wolff Ann Margaret ; Rosenbalm Erin Lynn ; Ward Thomas Edward ; Chung Alex Haejoon ; Reece Steven, Uncomplexed cyclodextrin compositions for odor control.

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Baldwin, Teresa; Kennedy, Joseph; Iwamoto, Nancy; Nakano, Tadashi; Bedwell, William; Stuck, Jason; Suedemeyer, Arlene; Hebert, Mello, Anti-reflective coating for photolithography and methods of preparation thereof.
  2. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  3. Mukhopadhyay, Sudip; Pandey, Yamini; Dankers, Lea, Anti-reflective coatings for optically transparent substrates.
  4. Li, Bo; Kennedy, Joseph; Iwamoto, Nancy; Fradkin, Mark A.; Hussein, Makarem A.; Goodner, Michael D.; Lu, Victor; Leung, Roger, Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof.
  5. Varaprasad, Desaraju; Korolev, Boris; Mukhopadhyay, Sudip, Coating formulations for optical elements.
  6. Kennedy, Joseph; Xie, Songyuan; Do, Kim; Mukhopadhyay, Sudip, Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof.
  7. Betty, Rita G.; Levin, Bruce L.; Tucker, Mark D.; Leonard, Jonathan; Brockmann, John E.; Lucero, Daniel A., Enhanced toxic cloud knockdown spray system for decontamination applications.
  8. Betty, Rita G.; Tucker, Mark D.; Brockmann, John E.; Lucero, Daniel A.; Levin, Bruce L.; Leonard, Jonathan, Enhanced toxic cloud knockdown spray system for decontamination applications.
  9. Ghosh,Chanchal Kumar; Haught,John Christian, Fabric care compositions for lipophilic fluid systems incorporating an antimicrobial agent.
  10. Smith, Novis; Roberson, Charles, Process for producing polyvinyl alcohol articles.
  11. Smith, Novis; Roberson, Charles, Process for producing polyvinyl alcohol articles.
  12. Kennedy, Joseph T.; Baldwin-Hendricks, Teresa, Spin-on anti-reflective coatings for photolithography.
  13. Kennedy, Joseph; Baldwin, Teresa; Hacker, Nigel P.; Spear, Richard, Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography.
  14. Mignone, Francesco, Towel/absorptive arm sleeve and means of hands free toweling.
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