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특허 상세정보

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Rectification of (meth)acrylic acid with the addition of a tenside

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C07C-057/42    C07C-027/10   
미국특허분류(USC) 562/600; 562/512.2
출원번호 US-0622916 (1999-03-04)
우선권정보 DE-0010962 (1998-03-13)
국제출원번호 PCT/EP99/01414 (1999-03-04)
국제공개번호 WO99/47482 (1999-09-23)
발명자 / 주소
  • Hammon, Ulrich
  • Herbst, Holger
  • Nestler, Gerhard
출원인 / 주소
  • BASF Aktiengesellschaft
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 9
초록

In a process for rectificative isolation of (meth)acrylic acid from a mixture containing, as main components, (meth)acrylic acid and an organic liquid having a higher boiling point than (meth)acrylic acid, the rectification is carried out with the addition of a surfactant.

대표
청구항
▼

1. A process for the rectificative isolation of acrylic or methacrylic acid from a mixture containing, as main components, acrylic or methacrylic acid and an organic liquid having a higher boiling point than said acrylic or methacrylic acid, wherein the rectification is carried out with the addition of a surfactant. 2. The process as claimed in claim 1, wherein said surfactant is a nonionic surfactant. 3. The process as claimed in claim 1, wherein said surfactant, on dissolution in water up until reaching the critical micelle formation concentration, is ...

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Ruppel Wilhelm,DEX ; Wegerle Ulrike,DEX ; Tenten Andreas,DEX ; Hammon Ulrich,DEX, Catalytic gas-phase oxidation of acrolein to acrylic acid.
  2. Ruppel Wilhelm,DEX ; Wegerle Ulrike,DEX ; Tenten Andreas,DEX ; Hammon Ulrich,DEX, Catalytic gas-phase oxidation of propene to acrolein.
  3. Martin Friedrich-Georg (Heidelberg DEX) Neumann Hans-Peter (Mannheim DEX) Hibst Hartmut (Schriesheim DEX), Multimetal oxide compositions.
  4. Frank Peter J. (Westerville OH) Hite Jerry R. (Columbus OH), Preparation and recovery of methacrylic acid and its esters.
  5. Duembgen Gerd (Dannstadt-Schauernheim DEX) Fouquet Gerd (Neustadt DEX) Krabetz Richard (Kirchheim DEX) Lucas Ekhart (Wachenheim DEX) Merger Franz (Frankenthal DEX) Nees Friedbert (Stutensee DEX), Process for the preparation of a
  6. Herbst Holger,DEX ; Hammon Ulrich,DEX, Process of isolation of (Meth) acrylic acid.
  7. Duembgen Gerd (Dannstadt DT) Engelbach Heinz (Limburgerhof DT) Frey Walter (Mannheim DT) Krabetz Richard (Kirchheim DT) Lebert Ulrich (Ludwigshafen DT) Spitzl Hermann (Ludwigshafen DT) Thiessen Fritz, Recovering anhydrous acrylic acid.
  8. Egly Horst,DEX ; Diehl Volker,DEX ; Jorg Klaus,DEX, Separation of (meth)acrylic acid from the reaction gas mixture formed in the catalytic gas phase oxidation of C.sub.3 /C.
  9. Willersinn Carl-Heinz (Ludwigshafen DEX), Separation of acrylic acid from the reaction gases from the catalytic oxidation of propylene and/or acrolein.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Koestner, Martin; Koelbl, Gerhard; Meier, Ralf, Process for preparation of high purity methacrylic acid.
  2. Korn, Tobias; Blum, Till; Carline, Travis; Fuchs, Christopher; Welch, Darryl; Zurowski, Peter; Schliephake, Volker; Rissel, Steffen; Friese, Thorsten; Jaeger, Ulrich; Haremza, Sylke, Process for production of acrylic acid.
  3. Lipowsky, Gunter; Schliephake, Volker; Rissel, Steffen; Jaeger, Ulrich; Hoefer, Frank; Haremza, Sylke; Zurowski, Peter; Mueller-Engel, Klaus Joachim, Process for transferring heat to a liquid mixture comprising at least one (meth)acrylic monomer.

IPC 상위 출원인