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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0173671 (2002-06-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 32 인용 특허 : 22 |
A method and system for controlling the temperatures of at least one gas in a plasma processing environment prior to the at least one gas entering a process chamber. This temperature control may vary at different spatial regions of a showerhead assembly (either an individual gas species or mixed gas
1. An in-line heat exchanger apparatus for controlling the temperature of a gas comprising:an inlet-side gas line for receiving a gas having a temperature to be controlled;an outlet-side gas line for expelling the gas after the temperature of the gas has been controlled;at least one temperature sens
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