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특허 상세정보

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Method for annealing an electrodeposition structure

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B29C-033/40    B29C-071/00    B29C-071/02    C21D-001/26    C25D-001/10   
미국특허분류(USC) 264/219; 148/516; 205/070; 264/235; 264/237
출원번호 US-0099915 (2002-03-15)
발명자 / 주소
  • Grimmer, Robert
  • Risca, Alex
  • Combs, Richard
출원인 / 주소
  • Collins & Aikman Automotive Company Inc.
대리인 / 주소
    Grossman, Tucker, Perreault & Pfleger, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 21
초록
▼

A method for annealing a structure formed by electrodeposition including providing the electrodeposition structure, the electrodeposition structure including an eletroformed mold, the electroformed mold having a nominal thickness between and including 0.5 mm to 8.0 mm and having a melting temperature; heating the electrodeposition structure to a temperature between ambient temperature and the melting temperature of the electrodeposition structure; isostatically pressurizing the electrodeposition structure to a pressure above ambient pressure; cooling the...

대표
청구항
▼

1. A method for annealing a structure formed by electrodeposition, the method comprising:providing the electrodeposition structure, the electrodeposition structure comprising an electroformed mold, the electroformed mold having a nominal thickness between and including 0.5 mm to 8.0 mm and having a melting temperature;heating the electrodeposition structure to a temperature between ambient temperature and the melting temperature of the electrodeposition structure;isostatically pressurizing the electrodeposition structure to a pressure above ambient press...

이 특허에 인용된 특허 (21)

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IPC 상위 출원인