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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0160744 (2002-05-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 6 |
In one embodiment, a microreplication tool includes gas release features that allow gas to escape from microreplication cavities of the tool. The gas release features can be disposed at the bottoms of the respective cavities to avoid air entrapment within the cavities of the tool during the microrep
1. A microreplication tool comprising:a microreplication surface formed with cavities that define microreplicated features during a microreplication process, wherein the cavities define substantially flat bottom regions which correspond to tops of the microreplicated feature; andair channels dispose
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