최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0435336 (2003-05-08) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 26 |
An apparatus for use with a deposition chamber includes a temperature control system that communicates with a heating element of the deposition chamber so as to not cause the formation of a thin layer exhibiting a substantially uniform property on an active surface of a semiconductor substrate. The
1. An apparatus for use with a chamber that includes a heating element and is configured to perform a semiconductor fabrication process, the apparatus comprising:a temperature control system configured to communicate with the heating element and to cause uneven heat distribution across a surface of
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.