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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0621000 (2000-07-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 203 인용 특허 : 187 |
In one embodiment of the invention, a method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: a) providing an organic semiconductor layer; b) depositing a reactive species on a portion of the organic semiconductor layer; and c) reacting the reactive species with the portion of the org
1. A method of manufacturing a semiconductor device comprising the steps of:a) providing an organic semiconductor layer; b) depositing a reactive species on a portion of the organic semiconductor layer; and c) reacting the reactive species with the portion of the organic layer to form a dielectric l
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