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Method and apparatus for manufacturing single-crystal ingot

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C30B-013/30
출원번호 US-0569086 (2000-05-10)
우선권정보 JP-0061422 (2000-03-07); JP-0014578 (2000-01-24); JP-0129957 (1999-05-11)
발명자 / 주소
  • Nakajima, Hirotaka
  • Kotooka, Toshirou
  • Shimanuki, Yoshiyuki
  • Inagaki, Hiroshi
  • Kawashima, Shigeki
  • Kamogawa, Makoto
출원인 / 주소
  • Komatsu Electronic Metals Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Welsh &
인용정보 피인용 횟수 : 11  인용 특허 : 3

초록

There are provided a system for manufacturing a single-crystal ingot which is equipped with a cooler for cooling the single-crystal ingot being pulled and is capable of forming a tail without involvement of excessive heating of a crucible, as well as to a method for controlling the system. In a syst

대표청구항

1. A method of controlling a system for manufacturing a single-crystal ingot by means of the Czochralski technique, the system having a cooler provided in a furnace for cooling a predetermined location of a single-crystal ingot which is being pulled from molten raw material, whereinwhen a tail of th

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Kotooka Toshirou,JPX ; Shimanuki Yoshiyuki,JPX ; Kamogawa Makoto,JPX, Device for manufacturing single crystals.
  2. Kotooka Toshiro,JPX ; Shimanuki Yoshiyuki,JPX ; Kamogawa Makoto,JPX, Method and device for manufacturing single crystals.
  3. Nause Jeffrey E. ; Hill D. Norman ; Pope Stephen G., Pressurized skull crucible for crystal growth using the Czochralski technique.

이 특허를 인용한 특허 (11)

  1. Ebi, Daisuke; Nakamura, Kentaro; Hayashi, Kengo; Hiraishi, Yoshinobu; Morimoto, Shigeo; Monden, Hiroshi, Apparatus for pulling single crystal by CZ method.
  2. Inagaki, Hiroshi; Kawashima, Shigeki; Kamogawa, Makoto; Kotooka, Toshirou; Saishoji, Toshiaki; Ebi, Daisuke; Nakamura, Kentaro; Hayashi, Kengo; Hiraishi, Yoshinobu; Morimoto, Shigeo; Monden, Hiroshi; Hanamoto, Tadayuki; Hata, Tadashi, Apparatus for pulling single crystal by CZ method.
  3. Lew, Shiow-Jeng, Crystal-growing furnace with convectional cooling structure.
  4. Cherko, Carl F.; Cook, Robert D., Fluid sealing system for a crystal puller.
  5. Narushima, Yasuhito; Kubota, Toshimichi; Uto, Masayuki, Manufacturing method of silicon monocrystal.
  6. Maleville, Christophe; Schwarzenbach, Walter; Renauld, Vivien, Method for applying a high temperature heat treatment to a semiconductor wafer.
  7. Yokoyama, Takashi; Saishoji, Toshiaka; Kotooka, Toshirou; Sakatani, Kazuyoshi, Method for manufacturing defect-free silicon single crystal.
  8. Sattler, Andreas; von Ammon, Wilfried; Weber, Martin; Haeckl, Walter; Schmidt, Herbert, Semiconductor wafers of silicon and method for their production.
  9. Sattler, Andreas; von Ammon, Wilfried; Weber, Martin; Haeckl, Walter; Schmidt, Herbert, Semiconductor wafers of silicon and method for their production.
  10. Kim, Do Yeon; Choi, Il Soo; An, Yun Ha, Silicon single crystal growing apparatus and silocon single crystal growing method using same.
  11. Abe, Takao, Single-crystal manufacturing apparatus and method for manufacturing single crystal.
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