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Dry cleaning machine and method of dry cleaning 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • D06F-033/00
출원번호 US-0907043 (2001-07-17)
발명자 / 주소
  • Sawa, Kohei
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 11

초록

The object is to avoid contaminating the washing conversely by contaminated detergent and provide a dry cleaning machine and dry cleaning method, solving hygienic issues.In a dry cleaning machine which supplies detergent from a detergent tank 11 to a washing tank 10 and washes the washing in the was

대표청구항

1. In a dry cleaning machine including a detergent tank to store detergent, a washing tank and a filtering tank to treat used detergent, wherein the treated detergent is sent back to the washing tank for cyclical use, the dry cleaning machine comprising:detecting means for detecting contamination le

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Preston A. Duane ; Turner Jon R., Carbon dioxide dry cleaning system.
  2. Matsumoto Tsuyoshi,JPX ; Tanaka Hiroko,JPX ; Tanigawa Masanobu,JPX, Drum type washing machine and dryer.
  3. Teramoto Masashi,JPX, Electronic device process apparatus.
  4. Caruthers ; Jr. Edward B. ; Stover Raymond W. ; Gibson George A. ; Larson James R., Liquid developing material replenishment system and method.
  5. Breunsbach Rex (14732 SE. 117th Ave. Clackamas OR 97015), Method for cleaning electronic assemblies.
  6. Kohler Tilo (West Babylon NY), Perchlorethylene recovery process for dry cleaning equipment.
  7. Cash Alan B., Process for regenerating spent solvent.
  8. McClain James B. ; Brainard David E. ; Cole Michael E. ; Worm Steve L., System for the control of a carbon dioxide cleaning apparatus.
  9. Nakagawa Mikihiko (Tokyo JPX) Negoro Daisaku (Saitama-ken JPX) Nakanishi Nobuyuki (Sagamihara JPX) Ogawa Akio (Tokyo JPX) Yajima Manabu (Tokyo JPX) Kinoshita Toshihara (Tokyo JPX), Washing/sterilizing apparatus for an endoscope and method for washing/sterilizing its water supplying system.
  10. Nyknen Tuomo S. (Glens Falls NY) Greenwood Brian F. (Glens Falls NY) Gullichsen Johan (Helsinki FIX) Kiiskil Erkki (Karhula FIX) Mattelmki Esko (Varkaus NY FIX) Phillips Joseph R. (Glens Falls NY) Ri, Zero discharge mill distillation, salt recovery, and water management.
  11. Chung Jong Wha, Zero emission dry cleaning machine and process.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Sawa, Kohei, Dry cleaning method and apparatus therefor.
  2. Sawa, Kohei, Dry cleaning method and apparatus therefor.
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