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Method and apparatus for improving silicon processing efficiency 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B02C-019/12
출원번호 US-0227362 (2002-08-22)
발명자 / 주소
  • Arvidson, Arvid Neil
  • Graham, Todd Stanley
  • Messner, Kathryn Elizabeth
  • Schmidt, Chris Tim
  • Horstman, Terence Lee
출원인 / 주소
  • Dow Corning Corporation
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 20

초록

A method for processing polycrystalline silicon workpieces to form size distributions of polycrystalline silicon pieces suitable for use in a Czochralski-type process includes: (1) preparing a polycrystalline silicon workpiece by a chemical vapor deposition process; (2) fracturing the polycrystallin

대표청구항

1. A method comprising:feeding a mixture of silicon piece to a rotary indent classifier comprising a rotating disk having a circumferential edge with one or more indents sized to capture silicon pieces of a predetermined size or smaller and to reject silicon pieces of a size larger than the predeter

이 특허에 인용된 특허 (20)

  1. Banan Mohsen ; Hansen Richard L., Cleaning of metallic contaminants from the surface of polycrystalline silicon with a halogen gas or plasma.
  2. Wolf Reinhard,DEX ; Flottmann Dirk,DEX ; Schantz Matthaus,DEX, Crushing of silicon on ultrapure ice.
  3. Koppl Franz,DEX ; Fuchs Paul,ATX, Device and method for fragmenting semiconductor material.
  4. Dumler Richard C. (Breckenridge MI) Stavely Matthew J. (Saginaw MI), Low-contaminate work surface for processing semiconductor grade silicon.
  5. Baueregger Rolf (Burgkirchen DEX) Bildl Erich (Post Franking ATX) Dietl Josef (Neuotting DEX), Low-contamination method for comminuting solid silicon fragments.
  6. Flottmann Dirk,DEX ; Ast Gerhard,DEX ; Wolf Reinhard,DEX, Method and device for processing semiconductor material.
  7. Koppl Franz (Erlbach DEX) Schantz Matthaus (Reut DEX), Method and device for the comminution of semiconductor material.
  8. Wochner Hanns,DEX ; Bauer Theresia,DEX ; Dietl Josef,DEX ; Ott Werner,DEX ; Pichler Herbert,ATX ; Schmidbauer Wilhelm,DEX ; Seifert Dieter,DEX ; Weizbauer Susanne,DEX, Method for producing a semiconductor material.
  9. Hwang Lydia Lee-York ; Porsche Arthur Francis, Method for removing metal surface contaminants from silicon.
  10. Wolf Andreas (Burgkirchen DEX) Koeppl Franz (Erlbach DEX), Method for the contamination-free size reduction of semiconductor material, especially silicon.
  11. Yatsurugi Yoshifumi (Fujisawa JPX) Katayama Meiseki (Ebetsu JPX), Method for the disintegration of silicon for semiconductor.
  12. Koppl Franz,DEX ; Steudten Friedrich,DEX ; Schantz Matthaus,DEX, Method for the treatment of semiconductor material.
  13. Kubota Junichi,JPX ; Oda Hiroyuki,JPX, Polycrystal silicon rod and production process therefor.
  14. Meyer James R., Polysilicon particle classifying apparatus.
  15. Schnegg Anton (Burghausen DEX) Brehm Gerhard (Emmerting DEX) Prigge Helene (Unterschleissheim DEX) Rurlnder Robert (Halsbach DEX) Ketterl Fritz (Munich DEX), Process and apparatus for etching semiconductor surfaces.
  16. Padovani ; Francois A. ; Miller ; Michael Brant ; Moore ; James A. ; Fo wler ; James H. ; June ; Malcolm Neville ; Matthews ; James D. ; Morton ; T. R. ; Stotko ; Norbert A. ; Palmer ; Lewis B., Process of refining impure silicon to produce purified electronic grade silicon.
  17. Holder John D. ; Sreedharamurthy Hariprasad, Process of stacking and melting polycrystalline silicon for high quality single crystal production.
  18. Dumler Richard C. (Breckenridge MI) Ruhlig Elden E. (Mt. Pleasant MI) Stavely Matthew J. (Saginaw MI), Rotary silicon screen.
  19. Padovani Francois A. (Dallas TX) Miller Michael B. (Richardson TX) Moore James A. (Dallas TX) Fowler James H. (both of ; Plano TX) June Malcom N. (both of ; Plano TX) Matthews James D. (Denver CO) Mo, Silicon refinery.
  20. Dirk Flottmann SG; Franz Koppl DE; Matthaus Schantz DE; Friedrich Steudten DE, Vibrating conveyor and method for conveying silicon fragments.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Vietz, Matthias; Hoelzlwimmer, Rainer; Lichtenegger, Bruno, Method and device for dosing and packaging polysilicon chunks and dosing and packaging unit.
  2. Hayashida, Syuuhei, Method of generating cracks in polycrystalline silicon rod and crack generating apparatus.
  3. Hayashida, Syuuhei, Method of generating cracks in polycrystalline silicon rod and crack generating apparatus.
  4. Sofin, Mikhail, Rod-type polysilicon having improved breaking properties.
  5. Sofin, Mikhail, Rod-type polysilicon having improved breaking properties.
  6. Bossen, Paul W., Rotary aggregate washing and classification system.
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