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Method of manufacturing cerium-based polishing agent

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24D-003/02
  • C09C-001/68
  • C09K-003/14
출원번호 US-0433967 (2002-05-24)
우선권정보 JP-0160644 (2001-05-29)
국제출원번호 PCT//JP02/05051 (2003-06-09)
§371/§102 date 20030609 (20030609)
국제공개번호 WO02//09700 (2002-12-05)
발명자 / 주소
  • Ito, Terunori
  • Watanabe, Hiroyuki
  • Ushiyama, Kazuya
  • Kuwabara, Shigeru
  • Uchino, Yoshitsugu
출원인 / 주소
  • Mitsui Mining &
  • Smelting Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Rothwell, Figg, Ernst &
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 5

초록

This invention aims to provide a method of manufacturing a cerium-based abrasive containing coarse particles in lower concentration and having higher polishing ability and excellent cleanability for a polished face. Further, the present invention provides a method of manufacturing a cerium-based abr

대표청구항

1. A method of manufacturing a cerium-based abrasive comprising the steps of: pulverizing a raw material of a serium-based abrasive; roasting a raw material after pulverization; and disintegrating a raw material after roasting, whereina cerium-based rare earth carbonate or a mixture of a cerium-base

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Kazuo Sunahara JP; Sumihisa Yamaguchi JP, Abrasive.
  2. Akahori, Toshihiko; Ashizawa, Toranosuke; Hirai, Keizo; Kurihara, Miho; Yoshida, Masato; Kurata, Yasushi, CMP abrasive, liquid additive for CMP abrasive and method for polishing substrate.
  3. Yoshida Masato,JPX ; Ashizawa Toranosuke,JPX ; Terazaki Hiroki,JPX ; Kurata Yasushi,JPX ; Matsuzawa Jun,JPX ; Tanno Kiyohito,JPX ; Ootuki Yuuto,JPX, Cerium oxide abrasive and method of polishing substrates.
  4. Grover Gautam S. ; Mueller Brian L., Composition for oxide CMP.
  5. Grover, Gautam S.; Mueller, Brian L.; Wang, Shumin, Composition for oxide CMP.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Burba, III, John L.; Hassler, Carl R.; O'Kelley, C. Brock; Lupo, Joseph A.; Pascoe, Joseph R., Apparatus for treating a flow of an aqueous solution containing arsenic.
  2. Burba, John, Composition and process for making the composition.
  3. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Composition for removing arsenic from aqueous streams.
  4. Burba, III, John L., Composition for treating a fluid.
  5. Burba, III, John L.; Oriard, Tim L., Process and apparatus for treating a gas containing a contaminant.
  6. Cable, Robert; Hassler, Carl; Burba, John, Rare earth removal of hydrated and hydroxyl species.
  7. Psaras, Dimitrios; Gao, Yuan; Haneline, Mason; Lupo, Joseph; Landi, Carol, Removal of arsenic from aqueous streams with cerium (IV) oxide compositions.
  8. Witham, Richard Donald; McNew, Edward Bayer; Burba, III, John Leslie, Water purification device for arsenic removal.
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