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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0433967 (2002-05-24) |
우선권정보 | JP-0160644 (2001-05-29) |
국제출원번호 | PCT//JP02/05051 (2003-06-09) |
§371/§102 date | 20030609 (20030609) |
국제공개번호 | WO02//09700 (2002-12-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 5 |
This invention aims to provide a method of manufacturing a cerium-based abrasive containing coarse particles in lower concentration and having higher polishing ability and excellent cleanability for a polished face. Further, the present invention provides a method of manufacturing a cerium-based abr
1. A method of manufacturing a cerium-based abrasive comprising the steps of: pulverizing a raw material of a serium-based abrasive; roasting a raw material after pulverization; and disintegrating a raw material after roasting, whereina cerium-based rare earth carbonate or a mixture of a cerium-base
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