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Apparatus and method for controlling wafer temperature

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F25D-025/00
출원번호 US-0324405 (2002-12-19)
발명자 / 주소
  • Kuo, Yang-Kuao
출원인 / 주소
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd
대리인 / 주소
    Tung &
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 11

초록

An apparatus and method which is particularly suitable for maintaining a wafer at an optimum temperature for the alignment and exposure step during photolithography. The apparatus includes a cooling plate having at least one cooling channel. A coolant is continually circulated through the cooling ch

대표청구항

1. An apparatus for controlling temperature of a wafer, comprising:a cooling plate having a body for receiving a wafer; at least one cooling channel provided in said body for circulating a coolant through said body; and a coolant pump and supply tank provided in fluid communication with said at leas

이 특허에 인용된 특허 (11)

  1. Hamilton Robin E. ; Fagan Thomas J. ; Kennedy Paul G. ; Woodward William S., Closed loop liquid cooling for semiconductor RF amplifier modules.
  2. Novak W. Thomas, Electro-magnetic motor cooling system.
  3. Cameron John F. (Los Altos CA) Salfelder Joseph F. (Williston VT) Deshpandey Chandra (Fremont CA), Erosion resistant electrostatic chuck with improved cooling system.
  4. del Puerto Santiago E. (Milton NY) Gaschke Paul M. (Pleasantville NY), Liquid film interface cooling system for semiconductor wafer processing.
  5. Kobayashi Masahiko,JPX ; Takahashi Nobuyuki,JPX, Method of handling a substrate after sputtering and sputtering apparatus.
  6. Thompson, Jr., Taylor Norris; Patel, Sanjiv Babubhai, Semiconductor process tool incorporating heat exchanger.
  7. Furuya Kunihiro,JPX ; Yonezawa Toshihiro,JPX ; Inoue Ken,JPX ; Nakagomi Yoichi,JPX, Semiconductor wafer holder with spring-mounted temperature measurement apparatus disposed therein.
  8. Dhindsa Rajinder, Solid state temperature controlled substrate holder.
  9. Lord Herbert A. (East Windsor NJ), Uniformly cooled plasma etching electrode.
  10. Kroeker Tony R., Wafer cooling in a transfer chamber of a vacuum processing system.
  11. Hamburgen William R. (Menlo Park CA) Fitch John S. (Newark CA), Wet micro-channel wafer chuck and cooling method.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Kuo,Yang Kuao, Pattern control system.
  2. Sakata,Toru, Pusher in an autohandler for pressing a semiconductor device.
  3. Steinhauser, Louis P., Thermal dynamic response sensing systems for heaters.
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