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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0211980 (2002-08-02) |
§371/§102 date | 20021115 (20021115) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 72 |
A method for activating chemical reactions using a non-thermal capillary discharge plasma (NT-CDP) unit or a non-thermal slot discharge plasma (NT-SDP) unit (collectively referred to as “NT-CDP/SDP”). The NT-CDP/SDP unit includes a first electrode disposed between two dielectric layers, wherein the
1. A method for activating chemical reactions using a non-thermal discharge unit that includes a first electrode disposed between two dielectric layers, the first electrode and dielectric layers having at least one opening defined therethrough, and at least one second electrode disposed in fluid com
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