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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0674659 (2000-03-06) |
우선권정보 | GB-0009853 (1999-04-29); GB-0004925 (1999-03-04) |
국제출원번호 | PCT//GB00/00793 (2001-01-08) |
§371/§102 date | 20010108 (20010108) |
국제공개번호 | WO00//51937 (2000-09-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 2 |
A gas generator system is provided wherein supply sources for halogenated gases, including pure molecular halogens, are connected into a gas reaction chamber, or chamber system, to enable generation of a predetermined gas for localized use in a subsequent process. The reaction chamber has a valved o
1. A method of generating a reactive process gas to be used in a subsequent process, the method comprising:providing gas supply sources which are connected to a gas reaction chamber or chamber system, at least one of said gas supply sources providing a pure molecular halogen gas which is fed directl
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