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Method and device for producing globular grains of high-puroty silicon having a diameter of between 50 μm and 300 μm and use of the same

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-033/02
  • B22D-011/01
  • B22F-009/00
  • B28B-001/54
  • B29B-009/00
출원번호 US-0433257 (2001-11-06)
우선권정보 DE-0059594 (2000-11-30)
국제출원번호 PCT//EP01/12804 (2003-05-29)
§371/§102 date 20030529 (20030529)
국제공개번호 WO02//46097 (2002-06-13)
발명자 / 주소
  • Block, Hans-Dieter
  • Kr?uter, Udo
  • Schreckenberg, Peter
출원인 / 주소
  • SolarWorld Aktiengesellschaft
대리인 / 주소
    McGlew and Tuttle, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 18

초록

The invention relates to a method and a device for producing globular grains of high-purity silicon by atomising a silicon melt (6) in an ultrasonic field (10). Globular grains having a grain size of 50 μm can be produced by means of said method and device and can be used to separate high-purity sil

대표청구항

1. A device for producing globular grains of high-purity silicon by atomizing a silicon melt in an ultrasonic field inside a pressurized vessel filled with inert gas, said device comprising:said vessel containing a heated melting pot for melting said silicon and a set of sonotrodes for producing a s

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Karlsson Stig A. (Tierp SEX), Apparatus for powder manufacture by atomizing a molten material.
  2. Scruggs David M. (San Juan Capistrano CA) Mickelson Eric N. (Mission Viejo CA), Apparatus for producing rapidly quenched metal particles.
  3. Bauckhage Klaus (Bremen DEX) Kunert Norbert (Bremen DEX) Schreckenberg Peter (Bremen DEX) Vetters Hermann (Bremen DEX), Apparatus for pulverizing at least one jet of molten metal.
  4. Miller Steven A. (Amsterdam NY) Christensen Roy W. (North Borough MA) Mourer David P. (Danvers MA), Atomization with low atomizing gas pressure.
  5. Nakasu Yasufumi,JPX ; Yoshida Masaharu,JPX ; Kanda Makoto,JPX ; Fukumoto Hiroshi,JPX, Bump forming apparatus and bump forming method.
  6. Lierke Ernst-Gunter (Schwalbach DEX) Luhmann Klaus (Russelsheim DEX) Jonsson Sigurd (Alzenau DEX) Hohmann Michael (Hanau DEX) Bendig Lothar (Pfullingen DEX) Hofmann Frieder (Metzingen DEX) Gaa Reinha, Device for ultrasonic atomization of a liquid medium.
  7. Gautreaux Marcelian F. (Baton Rouge LA) Allen Robert H. (Baton Rouge LA), Fluid bed process for producing polysilicon.
  8. Iya Sridhar K. (Williamsville NY), Fluid jet seed particle generator for silane pyrolysis reactor.
  9. Belk Thomas J. (St. Louis MO), Generation of seed particles.
  10. Shibuya Munehiro,JPX ; Kitagawa Masatoshi,JPX ; Mukai Yuji,JPX ; Hirao Takashi,JPX ; Yoshida Akihisa,JPX, Method for forming silicon film and silicon film forming apparatus.
  11. Yatsurugi Yoshifumi (Fujisawa JPX) Katayama Meiseki (Ebetsu JPX), Method for the disintegration of silicon for semiconductor.
  12. Miller Thomas J. (Alpharetta GA) Monroe Douglas W. (Newtown PA), Method of glass soot deposition using ultrasonic nozzle.
  13. Cann Gordon L. (Irvine CA), Performance improvements in thruster assembly.
  14. Handyside Timothy M. (Newcastle upon Tyne GB2) Morgan Andrew R. (Tyne & Wear GB2), Powder coating compositions and process for the manufacture thereof.
  15. Levendis Yiannis A. (Boston MA) Panagiotou Thomai (Brookline MA) Flagan Richard (La Crescenta CA), Production of polymer particles in powder form using an atomization technique.
  16. Iya Sridhar K. (Vancouver WA), Reactor for fluidized bed silane decomposition.
  17. Kenney George B. (131 Green St. Medfield MA 02052) Ashdown Charles P. (85 Wachusett Ave. Arlington MA 02174), Tandem atomization method for ultra-fine metal powder.
  18. Bechet Louis (Sciez FRX), Ultrasonic device for the continuous production of particles.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Froehlich, Robert; Mixon, David, Methods and system for cooling a reaction effluent gas.
  2. Froehlich, Robert; Fieselmann, Ben; Mixon, David; Tsuo, York, Reactor with silicide-coated metal surfaces.
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