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Apparatus and method for drying under reduced pressure, and coating film forming apparatus

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05C-011/02
출원번호 US-0615800 (2003-07-10)
우선권정보 JP-0204133 (2002-07-12)
발명자 / 주소
  • Kobayashi, Shinji
  • Kitano, Takahiro
  • Sugimoto, Shinichi
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited
대리인 / 주소
    Oblon, Spivak, McClelland, Maier &
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 7

초록

In drying a coating liquid such as a resist applied to a substrate under reduced pressure, a coating film in a peripheral portion tends to lose good shape regardless of duration of a drying period, and it is difficult to set an appropriate exhaust flow rate. After the substrate is loaded in an airti

대표청구항

1. An apparatus for drying under reduced pressure that dries a solvent in a coating liquid by placing a substrate having the coating liquid applied in a pressure-reduced atmosphere, comprising:an airtight container in which a substrate mount portion for mounting the substrate is provided to place th

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Takeshita Kazuhiro,JPX ; Nagashima Shinji,JPX ; Mizutani Yoji,JPX ; Katayama Kyoshige,JPX, Gas treatment apparatus.
  2. Shirakawa Eiichi,JPX ; Sata Nobuyuki,JPX, Heat treatment apparatus.
  3. Nobuyuki Kawakami JP; Yoshito Fukumoto JP; Kenichi Inoue JP; Kohei Suzuki JP; Takashi Kinoshita JP; Katsuhiro Uehara JP, Method and apparatus for making aerogel film.
  4. Karamatsu Hamataro,JPX ; Hori Masanao,JPX ; Katayama Seiji,JPX, Substrate drying device, drying method and substrate dried by the same.
  5. Hideyuki Takamori JP; Kiyohisa Tateyama JP; Kengo Mizosaki JP; Noriyuki Anai JP; Mitsuhiro Sakai JP; Shinobu Tanaka JP; Yoichi Honda JP; Yuji Shimomura JP, Substrate process method and substrate process apparatus.
  6. Takamori Hideyuki,JPX ; Tateyama Kiyohisa,JPX ; Mizosaki Kengo,JPX ; Anai Noriyuki,JPX ; Sakai Mitsuhiro,JPX ; Tanaka Shinobu,JPX ; Honda Yoichi,JPX ; Shimomura Yuji,JPX, Substrate process method and substrate process apparatus.
  7. Shunji Miyakawa JP; Yasuhide Nakajima JP; Soichi Matsuo JP, Vacuum drying apparatus and vacuum drying method.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Classen, Egbert; Rosenbauer, Michael; Steck, Wolfgang; Stickel, Martin, Drying method for a household appliance and household appliance for carrying the drying method.
  2. Aoki, Shigeki; Sakai, Yuichi; Yamashita, Mitsuo; Shinya, Hiroshi, Heat processing apparatus and heat processing method.
  3. Aoki, Shigeki; Sakai, Yuichi; Yamashita, Mitsuo; Shinya, Hiroshi, Heat processing apparatus and heat processing method.
  4. Kang, Unkyu; Kim, Sungun, Substrate treating apparatus and substrate treating method.
  5. Liu, Zhi (Lewis); Kashkoush, Ismail; Lee, Hanjoo, Systems and methods for drying a rotating substrate.
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