[특허]Substrate holding device, semiconductor manufacturing apparatus and device manufacturing method

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Substrate holding device, semiconductor manufacturing apparatus and device manufacturing method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03B-027/58 G03B-027/62
출원번호	US-0931984 (2004-09-02)
우선권정보	JP-2000-066378(2000-03-10); JP-2001-040169(2001-02-16)
발명자 / 주소	Matsui,Shin
출원인 / 주소	Canon Kabushiki Kaisha
대리인 / 주소	Fitzpatrick, Cella, Harper &
인용정보	피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 11

초록

A substrate holding device includes a base member capable of removably holding a plate having a contact member to come into contact with a substrate, and a sensor that identifies an identification sign provided on the plate.

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. A substrate holding device comprising: a base member capable of removably holding a plate having a contact member to come into contact with a substrate; a sensor that identifies an identification sign provided on said plate; and a controller that selects the plate based on an identification signal from said sensor, wherein said controller selects said plate based on information on a type of the substrate. 2. The substrate holding device according to claim 1, further comprising a storage device in which a status of use of said plate is stored based on an identification signal from said sensor. 3. The substrate holding device according to claim 1, wherein the information on the type of the substrate is outputted based on a signal indicative of an exposure condition.

이 특허에 인용된 특허 (11)

Takizawa Takeshi (Kunitachi JPX), Apparatus and method for supporting a substrate.
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Amemiya Mitsuaki (Isehara JPX) Uzawa Shunichi (Tokyo JPX), Apparatus and process for vacuum-holding an object.
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Honma Manabu,JPX, Auto-teaching method in semiconductor processing system.
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Isohata Junji (Tokyo JPX) Karasawa Tamotsu (Kawasaki JPX), Focus adjustment in an alignment and exposure apparatus.
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Yabu Shuichi (Kawasaki JPX) Takahashi Kazuo (Kawasaki JPX) Yamane Yukio (Yokohama JPX), Plate-like article holding device.
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Ishikawa Kenji (Sagamihara JPX) Komino Mitsuaki (Tokyo JPX) Mitui Tadashi (Yamanashi JPX) Iwata Teruo (Nirasaki JPX) Arai Izumi (Yokohama JPX) Tahara Yoshifumi (Tokyo JPX), Stage having electrostatic chuck and plasma processing apparatus using same.
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Chiba Yuji,JPX ; Mizusawa Nobutoshi,JPX ; Iwamoto Kazunori,JPX ; Tanaka Yutaka,JPX ; Hara Shinichi,JPX ; Marumo Mitsuji,JPX ; Matsui Shin,JPX ; Kurosawa Hiroshi,JPX, Substrate holding device and exposing apparatus using the same.
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Matsuo Manabu,JPX, Substrate rotating device.
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Suzuki Fujio (Kanagawa JPX), Substrate transfer method.
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Hara Shinichi (Yokohama JPX) Sakamoto Eiji (Sagamihara JPX) Ebinuma Ryuichi (Machida JPX), Wafer holding device in an exposure apparatus.
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Sato Mitsuya (Yokohama JPX), Wafer prober and a probe card to be used therewith.
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이 특허를 인용한 특허 (2)

Tanner, Roger Geoffrey; Saxton, Paul Adrian, Beverage preparation machines and beverage cartridges.
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Matsui,Shin, Substrate holding device, semiconductor manufacturing apparatus and device manufacturing method.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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