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Gas distributor for vapor coating method and container 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23G-016/00
출원번호 US-0029311 (2001-12-20)
발명자 / 주소
  • Wheat,Gary E.
  • Brown,Terri K.
  • Schmidt,Richard L.
  • Cove,Edward J.
출원인 / 주소
  • General Electric Company
대리인 / 주소
    Jagtiani + Guttag
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 19

초록

A gas distributor suitable for introducing a carrier gas at the top of a coating container used to provide a metallic coating on articles. The gas distributor includes a gas inlet and a gas outlet head in communication with the gas inlet for receiving a flow of gas from the gas inlet. A plurality of

대표청구항

What is claimed is: 1. An apparatus for vapor coating of articles with a metallic coating, which comprises: (1) a coating container having a base, a top spaced from the base, and a side wall connecting the top and the base; (2) a gas distributor comprising: (a) a gas inlet; (b) a gas outlet head

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Rigney David V. (Cincinnati OH), Apparatus and method for gas phase coating of hollow articles.
  2. Choi Won-sung,KRX ; Oh Kyu-un,KRX, Apparatus for depositing thin films on semiconductor wafers.
  3. Benden Robert S. (Manchester CT) Parzuchowski Richard S. (Bethel CT), Apparatus for gas phase deposition of coatings.
  4. Suda Toshikazu (Yokohama JPX), Apparatus for semiconductor process including photo-excitation process.
  5. Mahawili Imad (Sunnyvale CA), CVD reactor and gas injection system.
  6. Effa Gerald I. (One E. Camelback Rd. ; Ste 550 Phoenix AZ 85012), Cover for a tray jack.
  7. Turlot, Emmanuel; Chevrier, Jean-Baptiste; Schmitt, Jacques; Barreiro, Jean, Design of gas injection for the electrode in a capacitively coupled RF plasma reactor.
  8. Baldi Alfonso L. (Drexel Hill PA), Diffusion treatment of metal.
  9. Walter Heinrich,DEX, Gas phase coating process and apparatus for gas-phase coating of workpieces.
  10. Mantkowski Thomas E. ; Das Nripendra N. ; Heidorn Raymond W. ; King Jackie L., High temperature vapor coating container.
  11. Howard Peter ; Williams Michael ; Rahemanji Suebali ; Lucas Scott ; Yi Chong, Method and apparatus for gas phase coating complex internal surfaces of hollow articles.
  12. Pillhoefer Horst (Roehrmoos DEX) Thoma Martin (Munich DEX) Walter Heinrich (Friedberg DEX) Adam Peter (Dachau DEX), Method for coating a structural component by gas diffusion.
  13. Hauser ; Jr. Victor E. (Palmerton PA) Sinha Ashok K. (Murray Hill NJ), Method of coating semiconductor substrates.
  14. Conner Jeffrey A., Method of repairing turbine airfoils.
  15. Darolia Ramgopal, Modified diffusion aluminide coating for internal surfaces of gas turbine components.
  16. Perry Terry T. ; Bose Krishnangshu ; LaFlamme David W ; Magyar Lester J, Process for forming an oxidation and corrosion resistant coating on selected surfaces of an airfoil.
  17. Carlson David K. (Santa Clara CA) Lindstrom Paul R. (Aptos CA), Reactant gas injection for IC processing.
  18. Wanlass Mark (Golden CO), Reactor design for uniform chemical vapor deposition-grown films without substrate rotation.
  19. Sandys Norman (16 Crescent Dr. Searingtown NY), Reactor for heating semiconductor substrates.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Cunning, Hugh; Williams, Graham; Odedra, Rajesh; Kanjolia, Ravi, Bubbler for the transportation of substances by a carrier gas.
  2. Omotowa, Bamidele A., Method for production of nitrogen trifluoride from trimethylsilylamines.
  3. Olson, Walter E., Selective aluminide coating process.
  4. Kanjolia, Ravi; Platts, Chris; Nguyen, Nam; Wilkinson, Mark, Solid precursor delivery assemblies and related methods.
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