[특허]Highly efficient compact capacitance coupled plasma reactor/generator and method

Highly efficient compact capacitance coupled plasma reactor/generator and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01J-019/08
출원번호	US-0418355 (2003-04-16)
발명자 / 주소	Chiu,Kin Chung Ray
출원인 / 주소	DryScrub, ETC
대리인 / 주소	Townsend and Townsend and Crew LLP
인용정보	피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 34

초록 ▼

A compact capacitively coupled electrode structure for use in a gas plasma reactor/generator is disclosed. The electrode structure comprises a parallel plate type anode and cathode spaced to define a gas flow path or volume therebetween. A plurality of electrically conductive fin elements are interposed in the space between the anode and cathode. The fin elements substantially increase the ratio of electrode surface area to volume, and subdivide the gas flow path or volume, thereby substantially increasing the efficiency of plasma gas processing that is possible over a broad range of operating parameters, without substantially increasing the spacing between the anode and cathode. Static or closed operation is also disclosed. Also disclosed is a multi-anode/multi-cathode electrode assembly embodying the basic electrode structure and a highly efficient and compact gas plasma reactor/generator employing the assembly.

대표청구항 ▼

What is claimed is: 1. A method of constructing a plasma reactor/generator comprising: providing a housing defining an interior volume; providing an anode and a cathode in said housing, said anode and said cathode each having a plurality of anode and cathode surfaces, wherein said anode and cathode surfaces face each other and are spaced apart to define a volume therebetween for a gas; providing a common electrical connection for said anode surfaces, and a common electrical connection for said cathode surfaces; providing a plurality of electrically conductive fin elements on a plurality of said facing surfaces of said anode and said cathode, said fin elements extending into the volume between said facing surfaces, Thereby substantially partitioning said volume into a plurality of cells; and arranging and dimensioning said cells to facilitate manipulating the characteristics of a plasma in said volume. 2. The method of claim 1 wherein arranging and dimensioning said cells includes arranging said cells in a selected pattern to facilitate manipulating the shape of a plasma in said volume. 3. The method of claim 2 wherein arranging and dimensioning said cells includes dimensioning said cells to facilitate manipulating the focus of a plasma in said volume. 4. The method of claim 2 wherein arranging and dimensioning said cells includes dimensioning said cells to facilitate manipulating the intensity of a plasma in said volume. 5. The method of claim 1 wherein arranging and dimensioning said cells includes arranging and dimensioning said cells to facilitate manipulating a plasma in said volume to produce a selected geometric pattern. 6. A method of generating a plasma in a plasma reactor/generator constructed according to the method of claim 1, comprising: introducing a gas into the interior volume defined by said housing; providing electrical energy to said anode and said cathode and generating a plasma in said volume between said facing surfaces of said anode and said cathode. 7. The method of claim 6 wherein said cells are arranged in a selected pattern to manipulate the shape of said plasma. 8. The method of claim 6 wherein said cells are dimensioned manipulate the focus of said plasma. 9. The method of claim 6 wherein said cells are dimensioned to manipulate the intensity of said plasma. 10. The method of claim 6 wherein said cells are arranged and dimensioned to manipulate said plasma to produce a selected geometric pattern.

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