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Advanced signal processing technique for translating fringe line disturbances into sample height at a particular position above an interferometer's sample stage

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01B-009/02
출원번호 US-0215905 (2002-08-09)
발명자 / 주소
  • Dulman,Lev
출원인 / 주소
  • Angstrovision, Inc.
대리인 / 주소
    Blakely, Sokoloff, Taylor &
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 18

초록

A method is described that involves tracking a fringe line disturbance that has breached its field of reference. The method also involves translating each pixel location of the tracked fringe line disturbance to an x,y,zs data point. x and y represent a position on the plane of an interferometer's s

대표청구항

What is claimed is: 1. A method, comprising: tracking a fringe line disturbance that has breached its field of reference on a reference field by reference field basis by: reading image data for a first reference field, said image data comprising pixel locations of one or more detected fringe lines

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Akiko Harasaki JP; Joanna Schmit, Bat-wing attenuation in white-light interferometry.
  2. Ledger Anthony M. (New Fairfield CT), Film thickness measurement of structures containing a scattering surface.
  3. Toida Masahiro,JPX ; Miyagawa Ichirou,JPX, Glucose concentration measuring method and apparatus with a coherent source and heterodyne interferometer.
  4. Dulman Lev (2366 33rd Ave. San Francisco CA 94116), Inteferometric imaging system.
  5. Massie Norbert A. (Thousand Oaks CA) Holly Sandor (Woodland Hills CA), Interferometer.
  6. Noguchi Masato (Kawaguchi JPX), Interferometer employing reference images.
  7. Noguchi Masato (Tokyo JPX) Oono Masahiro (Tokyo JPX), Interferometer for the measurement of surface profile which introduces a spatial carrier by tilting the reference mirror.
  8. Takashi Gemma JP; Hiroshi Ichihara JP; Hajime Ichikawa JP; Shigeru Nakayama JP; Bruce Jacobsen JP, Interferometric apparatus and methods for measuring surface topography of a test surface.
  9. Bruce Robert A. (Morrison CO), Method and apparatus for measuring the absolute thickness of dust defocus layers.
  10. Worster Bruce W. ; Lee Ken K., Method for characterizing defects on semiconductor wafers.
  11. Schmucker Mark A. ; Becker Brian W., Method of combining multiple sets of overlapping surface-profile interferometric data to produce a continuous composit.
  12. Yasuda Kenji (Kitamoto JPX) Yoneda Masami (Saitama-ken JPX), Method of interference fringe analysis for determining aspect of surface geometry.
  13. Zawaideh Emad, Nondestructive optical techniques for simultaneously measuring optical constants and thicknesses of single and multilay.
  14. Handa Hirohisa,JPX, Optical interference profiler having shadow compensation.
  15. Balasubramanian N. (20361 Chalet La. Saratoga CA 95070), Optical system for surface topography measurement.
  16. Dobschal Hans-Juergen,DEX ; Fuchs Werner,DEX ; Graefe Dieter,DEX ; Gauglitz Guenter,DEX ; Brecht Andreas,DEX, Process and apparatus for detecting structural changes of specimens.
  17. Kao, Imin; Chiang, Fu-Pen, Shadow moire surface measurement using Talbot effect.
  18. Wyant James C. (Tucson AZ) Creath Katherine (Tucson AZ), Two-wavelength phase-shifting interferometer and method.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Dulman,Lev, Interferometric topological metrology with pre-established reference scale.
  2. Baker, Tony, Removal of molecular assay interferences.
  3. Ge,Zongtao; Kobayashi,Fumio; Tanaka,Kunihiko, Sample inclination measuring method.
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