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Mass flow ratio system and method

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G05D-011/13
  • G05D-011/00
  • G05D-007/06
출원번호 US-0816084 (2004-04-01)
발명자 / 주소
  • Ambrosina,Jesse
  • Kottenstette,Nicholas E.
  • Shajii,Ali
출원인 / 주소
  • MKS Instruments, Inc.
대리인 / 주소
    McDermott Will &
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 15

초록

A system for dividing a single mass flow, including an inlet adapted to receive the single mass flow and at least two flow lines connected to the inlet. Each flow line includes a flow meter and a valve. The system also includes a controller programmed to receive a desired ratio of flow through a us

대표청구항

What is claimed is: 1. A system for dividing a single mass flow, from a system inlet into two or more secondary flows through two or more secondary flow lines in accordance with a preselected ratio of flow rates through the secondary flow lines, comprising: A) the system inlet adapted to receive th

이 특허에 인용된 특허 (15)

  1. Kitayama Hirofumi,JPX ; Kurono Yoichi ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Masuda Naoya,JPX, Apparatus for feeding gases for use in semiconductor manufacturing.
  2. Mack Michael E. (Manchester MA), Fluid flow control method and apparatus for minimizing particle contamination.
  3. Mack Michael E. (Manchester MA), Fluid flow control method and apparatus for minimizing particle contamination.
  4. Goldman Jon C. (Orange CA) Rappaport Robert E. (Westminster CA), Gas control system for chemical vapor deposition system.
  5. McMillin Brian K. ; Knop Robert, Gas distribution apparatus for semiconductor processing.
  6. Yamagishi, Takayuki; Suwada, Masaei, Gas-line system for semiconductor-manufacturing apparatus.
  7. Ambrosina, Jesse; Kottenstette, Nicholas E.; Shajii, Ali, Mass flow ratio system and method.
  8. Marrelli John D. (Houston TX), Means for separating a fluid stream into two separate streams.
  9. Stoy James R. (Missouri City TX) Schrodt James L. G. (Houston TX) Wheeler Stephen S. (Bakersfield CA), Method and apparatus for automatically transferring and measuring wet steam between priority and secondary users.
  10. Lull, John M.; Valentine, William S., Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  11. Goto Yasuo (Saitama JPX), Nitrogen oxide removal control apparatus.
  12. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX) Davis Cecil J. (Greenville TX) Matthews Robert T. (Plano TX), Programmable multizone gas injector for single-wafer semiconductor processing equipment.
  13. Emmanuel Vyers, System and method for a digital mass flow controller.
  14. Matthew Thomas Taylor ; John Christopher Hallahan ; William R. Clark, System and method for dividing flow.
  15. Bergamini Lorenzo,ITX, System for measuring and controlling gas mass flow.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Ulens, Jan; Vandenheuvel, Philip; Vandendriessche, Peter, Flow control system.
  2. Lull,John M.; Valentine,William S., Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  3. Beeby, Clive; Hupkes, Willem, Method for controlling a gas flow between a plurality of gas streams.
  4. Ding, Junhua, Method of and apparatus for multiple channel flow ratio controller system.
  5. Ding, Junhua, Methods of and apparatus for controlling pressure in multiple zones of a process tool.
  6. Snuttjer, Owen R., Pressure regulation circuit for turbine generators.
  7. Suzuki, Shigehiro; Sasaki, Ryu, Shutoff valve apparatus and mass flow control device with built-in valve.
  8. Kimbara,Masahiko; Ogami,Nobuyuki; Yamashita,Akira; Kobayashi,Nobuo, Tank system including multiple tanks and control method thereof.
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