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Thermal recording material 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/021
  • G03F-007/016
  • B41M-005/30
출원번호 US-0367974 (2003-02-19)
발명자 / 주소
  • Minami,Kazumori
  • Yamada,Hisao
  • Sato,Hiroshi
출원인 / 주소
  • Fuji Photo Film Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Sughrue Mion, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 20

초록

The present invention provides a thermal recording material comprising a support and at least a thermal recording layer disposed on the support, wherein at least one of the thermal recording layer includes, together with an electron donating colorless dye, at least an electron accepting compound rep

대표청구항

What is claimed is: 1. A thermal recording material comprising a support and at least a thermal recording layer disposed on the support, wherein at least one thermal recording layer includes, together with an electron donating colorless dye enclosed in microcapsules, at least an electron accepting

이 특허에 인용된 특허 (20)

  1. Mandoh Ritsuo (Sakai JPX) Minami Takehiro (Osaka JPX) Ishida Katsuhiko (Takatsuki JPX) Mitoh Hisayoshi (Nagaokakyo JPX), Heat sensitive recording material using microcapsules containing ultraviolet absorber.
  2. Arai, Naoto, Heat-sensitive record material.
  3. Aono Toshiaki,JPX, Heat-sensitive recording material.
  4. Saito, Toranosuke; Kitani, Masakatu; Ishibashi, Takashi; Arai, Naoto; Murakami, Takeshi; Suzuki, Toshitake, Heat-sensitive recording material.
  5. Sano, Shojiro; Tabata, Fumiya, Heat-sensitive recording material.
  6. Tanaka Toshiharu (Shizuoka JPX) Usami Toshimasa (Shizuoka JPX), Heat-sensitive recording material.
  7. Nakamura Teruo (Nishinomiya JPX) Arai Naoto (Ikeda JPX), Heat-sensitive recording materials.
  8. Kubota, Yukio; Suzuki, Minoru; Shimbo, Kazuyuki, Image-recording composition and image-recording sheet using same.
  9. Ichikawa, Kimio, Method for producing microcapsules and heat-sensitive recording material.
  10. Jeffries ; III Alfred T. (Providence RI) Toukhy Medhat A. (Barrington RI), O-naphthoquinone diazide sulfonyl esters of 4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexanone phenolic derivatives with associated radiat.
  11. Krzoska Michael Curley ; Seehafer Troy Ronald, Record material.
  12. Brockett, Bruce W.; Miller, Robert E., Record member.
  13. Saeki Keiso (Shizuoka JPX) Takashima Masanobu (Shizuoka JPX) Iwakura Ken (Shizuoka JPX), Recording material.
  14. Serizawa, Shinichiro; Ogata, Yasuhiro, Recording material.
  15. Ikeda Kensuke (Shizuoka JPX) Iwakura Ken (Kanagawa JPX) Satomura Masato (Kanagawa JPX), Recording materials.
  16. Matsumoto Tatsuru (Shizuoka JPX) Tanaka Kenichi (Shizuoka JPX), Reversible heat-sensitive recording medium.
  17. Jeffries ; III Alfred T. (Providence RI), Selected phenolic derivatives of 4-(4-hydroxyphenyl)-cyclohexanone and their use as sensitivity enhancers for radiation.
  18. Ken-Ichi Shimazu ; Jayanti Patel ; Shashikant Saraiya ; Nishith Merchant ; Celin Savariar-Hauck DE; Hans-Joachim Timpe DE; Christopher D. McCullough, Thermal digital lithographic printing plate.
  19. Ueda Takashi (Numaza JPX) Maruta Keiichi (Numaza JPX) Yaguchi Hiroshi (Numaza JPX), Thermosensitive recording material.
  20. Ueda Takashi (Numazu JPX) Maruta Keiichi (Numazu JPX) Yaguchi Hiroshi (Numazu JPX), Thermosensitive recording material.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Kelly, Carissa M.; Noga, David E.; Sidenstick, John E.; Ben-Asher, Limor; Kondo, Atuso, Low toxicity solvent system for polyamdieimide and polyamide amic acid resin manufacture.
  2. Kelly, Carissa M.; Noga, David E.; Sidenstick, John E.; Ben-Asher, Limor; Kondo, Atsuo, Low toxicity solvent system for polyamideimide and polyamide amic acid resin coating.
  3. Sidenstick, John; Clouston, Russell Scott; Mullins, Kathryn, Low toxicity solvent system for polyamideimide and polyamide amic acid resins and coating solutions thereof.
  4. Sidenstick, John; Noga, David; Mullins, Kathryn; Phillips, Mace, Low toxicity solvent system for polyamideimide resins and solvent system manufacture.
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