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Process using alumina agglomerates to eliminate organic oxygen-containing molecules present in an organic effluent 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/04
출원번호 US-0473932 (2002-03-27)
우선권정보 FR-01 04588(2001-04-04)
국제출원번호 PCT/FR02/001069 (2002-03-27)
§371/§102 date 20040315 (20040315)
국제공개번호 WO02/081047 (2002-10-17)
발명자 / 주소
  • Nedez,Christophe
출원인 / 주소
  • Axens
대리인 / 주소
    Welsh &
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 14

초록

A process for eliminating organic oxygen-containing molecules such as alcohols and organic present in an organic or gaseous effluent is characterized in that the elimination is carried out by adsorbing said organic oxygen-containing molecules onto alumina agglomerates.

대표청구항

The invention claimed is: 1. A process for eliminating organic oxygen-containing molecules present in an organic or gaseous effluent, comprising: the steps of adsorbing said organic oxygen-containing molecules onto alumina agglomerates with the following characteristics: a specific surface area of

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Kanazirev Vladislav I., Alumina bodies containing alkali or alkaline earth metal compounds.
  2. Kanazirev Vladislav I., Alumina body formation using high pH.
  3. Tonkovich, Anna Lee Y.; Monzyk, Bruce F.; Wang, Yong; VanderWiel, David P.; Perry, Steven T.; Fitzgerald, Sean P.; Simmons, Wayne W.; McDaniel, Jeffrey S.; Weller, Jr., Albert E., Apparatus and methods for separation/purification utilizing rapidly cycled thermal swing sorption.
  4. Gaffney Thomas Richard ; Golden Timothy Christopher ; Mayorga Steven Gerard ; Brzozowski Jeffrey Richard ; Taylor Fred William, Carbon dioxide pressure swing adsorption process using modified alumina adsorbents.
  5. Tadaharu Watanabe ; Dan Fraenkel, Method and materials for purifying hydride gases, inert gases, and non-reactive gases.
  6. Christophe Nedez FR, Method for eliminating halogenated compounds contained in a gas or liquid.
  7. Georges Kraus FR; Patrick Le Bot FR; Lian-Ming Sun FR, Process for the treatment of a gas by temperature swing adsorption.
  8. Kalbassi, Mohammad Ali; Malik, Nasim Hassan, Process for treating a feed gas.
  9. Neal Lewis G. (Danville CA) Haslbeck John L. (Paducah KY) Tseng Hsiaopin (Kansas City MO), Processes for removing nitrogen oxides, sulfur oxides and hydrogen sulfide from gas streams.
  10. Kallenbach Lyle R. (Bartlesville OK) Johnson Marvin M. (Bartlesville OK), Separation of polar substances from hydrocarbons.
  11. Neal Lewis G. (Danville CA) Haslbeck John L. (Paducah KY) Tseng Hsiaopin (Kansas City MO), Sorbent and processes for removing nitrogen oxides, sulfur oxides and hydrogen sulfide from gas streams.
  12. Neal Lewis G. (Danville CA) Haslbeck John L. (Paducah KY) Tseng Hsiaopin (Kansas City MO), Sorbent for removing nitrogen oxides, sulfur oxides and hydrogen sulfide from gas streams.
  13. Christian Monereau FR, Use of an activated alumina for removing the CO2 from a gas.
  14. Golden Timothy Christopher ; Kalbassi Mohammed Ali,GB2 ; Taylor Fred William ; Allam Rodney John,GB2, Use of zeolites and alumina in adsorption processes.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Kuhel, Anthony E.; Adams, Harry A.; Sacco, Gina, Media for removal of contaminants from fluid streams and method of making same.
  2. Kuhel, Anthony E.; Adams, Harry A.; Sacco, Gina, Method of reducing a level of metallic species contamination of a fluid.
  3. Ou, John Di-Yi; Heeter, Glenn A.; Luo, Shifang L.; Eilands, Indulis J.; Abichandani, Jeevan S.; Gawlik, Allen S.; Nash, Mark W.; Osby, Terrance C.; Tinger, Robert G., Phenol removal in paraxylene recovery process.
  4. Ou, John Di-Yi; Heeter, Glenn A.; Luo, Shifang L.; Eilands, Indulis J.; Abichandani, Jeevan S.; Gawlik, Allen S.; Nash, Mark W.; Osby, Terrance C.; Tinger, Robert G., Phenol removal in paraxylene recovery process.
  5. Ou, John Di-Yi; Heeter, Glenn A.; Luo, Shifang L.; Eilands, Indulis J.; Abichandani, Jeevan S.; Gawlik, Allen Scott; Nash, Mark W.; Osby, Terrance C.; Tinger, Robert G., Phenol removal in paraxylene recovery process.
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