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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0225585 (2002-08-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 65 |
Methods for forming microelectronic workpieces used in electrochemical deposition processes, methods of depositing a conductive layer on a microelectronic workpiece, and articles for electrochemical deposition in semiconductor fabrication. One aspect of the invention is directed toward methods for f
I claim: 1. A method of forming a microelectronic workpiece for electrochemical deposition processing, comprising: depositing a first conductive material on the workpiece to form an electrically conductive contact layer that conforms to submicron recesses in the workpiece; disposing a second conduc
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