최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0069058 (2000-08-17) |
우선권정보 | FR-99 10667(1999-08-20) |
국제출원번호 | PCT/FR00/002330 (2000-08-17) |
§371/§102 date | 20020827 (20020827) |
국제공개번호 | WO01/015215 (2001-03-01) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 7 |
The invention relates to a method for treating substrates (50) for microelectronics or optoelectronics, whereby said substrates comprise a useful layer (52) on at least one of the surfaces thereof. The inventive method includes a mechanical/chemical polishing step occurring on a bare surface (54) of
What is claimed is: 1. A process for treating microelectronic or optoelectronic substrates that have a working layer with a free surface thereof, which process comprises: oxidizing the working layer to provide at least a portion of the free surface as an oxide; removing a portion of said oxide; and
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.