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Method and materials for purifying hydride gases, inert gases, and non-reactive gases

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/02
  • C01F-007/02
  • C01F-007/00
출원번호 US-0260060 (2002-09-27)
발명자 / 주소
  • Watanabe,Tadaharu
  • Fraenkel,Dan
출원인 / 주소
  • Matheson Tri Gas, Inc.
대리인 / 주소
    Hogan &
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 19

초록

A process for removing trace amounts of moisture and/or one or more impurities from contaminated hydride, inert and non-reactive gases, thus decreasing the concentration of the impurities to parts-per-billion (ppb) or parts-per-trillion (ppt) levels. The gas purifier materials of this invention incl

대표청구항

We claim: 1. An activated gas purifier material capable of removing trace amounts of one or more impurities from a hydride, inert, or nonreactive gas at a temperature below 100째 C., said purifier comprising an alumina material selected from the group consisting of organic aluminas and modified orga

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Slaugh Lynn H. (Houston TX) Willis Carl L. (Houston TX), CO2 Removal from gaseous streams.
  2. Gaffney Thomas Richard ; Golden Timothy Christopher ; Mayorga Steven Gerard ; Brzozowski Jeffrey Richard ; Taylor Fred William, Carbon dioxide pressure swing adsorption process using modified alumina adsorbents.
  3. Ota Yoichiro (Itami JPX), Chemical vapor deposition apparatus.
  4. Wakaizumi Akira (Tokyo JPX) Kawakami Hiroshi (Yokohama JPX), Gas adsorbent and process for producing same.
  5. Hans H. Funke ; Dan Fraenkel ; Virginia H. Houlding, Method and apparatus for removing trace impurities from a gas using superactivated carbon material.
  6. Lee John S. (Baton Rouge LA) Pearson Michael J. (Castro Valley CA), Method for making an HCL adsorbent.
  7. Tramposch Walter G. ; Greenback Mick, Method for packaging adsorbents.
  8. Boreskov Georgy Konstantinovich (ULITSA Zolotodolinskaya ; 85 Novosibirsk SU) Kuklina Valentina Nikclaevna (BULVAR Molodezhi ; 28a ; kv. 33 Novosibirsk SU) Levitsky Emmanuil Aronovich (ULITSA Akademi, Method for producing granulated porous corundum.
  9. Alvarez ; Jr. Daniel ; Spiegelman Jeffrey J., Method, composition and apparatus for water removal from non-corrosive gas streams.
  10. Sato, Goro; Sato, Masayoshi, Process for preparing an alumina composition.
  11. McLaughlin Kevin J. ; Decker Ben L. ; Chavez Mark M., Process for producing stabilized alumina having enhanced resistance to loss of surface area at high temperatures.
  12. Tom Glenn M. (New Milford CT) McManus James V. (Danbury CT), Process for purifying semiconductor process gases to remove lewis acid and oxidant impurities therefrom.
  13. Blachman, Marc; McHugh, Terence J., Process for removing fluorides from fluids.
  14. Meyer Arnold (Michaelisdonn DEX) Noweck Klaus (Brunsbuttel DEX) Reichenauer Ansgar (Marne DEX), Process for the production of boehmitic aluminas.
  15. Pearson Michael J. (Pleasanton CA), Promoted scavenger for purifying HCl-contaminated gases.
  16. Lewis Kenrick M. (New York NY) Chang Ching-Feng (Strongsville OH), Redistribution of organohalosilanes utilizing heat treated crystalline alumina catalysts.
  17. Hogan John P. (Bartlesville OK) Rease Charles R. (Bartlesville OK), Removal of carbon dioxide from olefin containing streams.
  18. Kalbassi Mohammed Ali,GB2 ; Allam Rodney John,GB2 ; Golden Timothy Christopher, Temperature swing adsorption.
  19. Christian Monereau FR, Use of an activated alumina for removing the CO2 from a gas.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Watanabe, Tadaharu; Raynor, Mark; Lau, Ade; Mangyo, Hirotaka, Removal of impurities from hydrogen-containing materials.
  2. Watanabe, Tadaharu; Raynor, Mark; Lau, Ade; Mangyo, Hirotaka, Removal of impurities from hydrogen-containing materials.
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