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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0134147 (1998-08-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 60 |
A technique and apparatus is disclosed for the optical monitoring and measurement of a thin film (or small region on a surface) undergoing thickness or other changes while it is rotating. An optical signal is routed from the monitored area through the axis of rotation and decoupled from the monitore
What is claimed is: 1. A chemical mechanical polisher for planarizing a film on one side of a substrate having two sides, the polisher comprising: a rotatable platen configured to receive a polishing pad, the polisher being operable to polish the film by rotating the platen to cause relative motion
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