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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0781790 (2004-02-20) |
우선권정보 | JP-2000/382331(2000-12-15); JP-2001/356554(2001-11-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 18 |
A substrate includes fine lines. The fine lines are obtained according to a fine-line forming process, which includes a process of projecting light from above the substrate onto predetermined regions on a photosensitive material provided on the substrate and a developing process after the light proj
What is claimed is: 1. A method of manufacturing a substrate having a fine line on a substrate face, said method comprising: a fine-line forming step of forming the fine line on the substrate face, wherein an end portion of the fine line in a longitudinal direction is divided into a plurality of di
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