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Substrate having fine lines, method for manufacturing the same, electron-source substrate, and image display apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03F-007/00
출원번호 US-0781790 (2004-02-20)
우선권정보 JP-2000/382331(2000-12-15); JP-2001/356554(2001-11-21)
발명자 / 주소
  • Uda,Yoshimi
  • Ishiwata,Kazuya
  • Kubo,Shinsaku
  • Watanabe,Yasuyuki
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha
대리인 / 주소
    Fitzpatrick, Cella, Harper &
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 18

초록

A substrate includes fine lines. The fine lines are obtained according to a fine-line forming process, which includes a process of projecting light from above the substrate onto predetermined regions on a photosensitive material provided on the substrate and a developing process after the light proj

대표청구항

What is claimed is: 1. A method of manufacturing a substrate having a fine line on a substrate face, said method comprising: a fine-line forming step of forming the fine line on the substrate face, wherein an end portion of the fine line in a longitudinal direction is divided into a plurality of di

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Onisawa Kenichi,JPX ; Ono Kikuo,JPX ; Kaneko Toshiki,JPX ; Chahara Kenichi,JPX ; Nakajima Katsunori,JPX ; Nishimura Etsuko,JPX ; Satou Takeshi,JPX ; Minemura Tetsuro,JPX, Active matrix type liquid crystal display device having chromium alloy connecting portions at pixel electrode or near driving circuit terminals.
  2. Toshiki Kaneko JP; Yuichi Hashimoto JP; Kikuo Ono JP; Kazuhiro Ohhara JP; Takahiro Ochiai JP; Masaru Takabatake JP; Kenichi Onisawa JP; Kenichi Cyahara JP, Display device having a wiring multi-layered structure with tapered first layer and a manufacturing process for the tapered structure.
  3. Chiba Keiko,JPX ; Uzawa Shunichi,JPX ; Amemiya Mitsuaki,JPX ; Watanabe Yutaka,JPX, Exposure method and X-ray mask structure for use with the same.
  4. Mizuno, Hiroaki; Nishinaka, Masaki; Fujita, Shingo; Ogawa, Tetsu, Liquid crystal display and manufacture therefore.
  5. Fujii Tatsuhisa,JPX ; Katayama Mitsugu,JPX ; Ohira Tomohide,JPX ; Fumikura Tatsuyuki,JPX ; Madokoro Hitomi,JPX, Liquid crystal display with substantially equal resistances for sets of terminal electrodes and inclined wiring electrod.
  6. Yanagisawa Yoshihiro,JPX ; Kaneko Tetsuya,JPX, Method and apparatus for separating a silk screen from a printed object.
  7. Suzuki Hidetoshi (Fujisawa JPX) Osada Yoshiyuki (Atsugi JPX) Nomura Ichiro (Atsugi JPX) Ono Takeo (Machida JPX) Kawade Hisaaki (Yokohama JPX) Yamaguchi Eiji (Zama JPX) Takeda Toshihiko (Atsugi JPX) T, Method of manufacturing an electron source.
  8. Amemiya Mitsuaki (Utsunomiya JPX) Watanabe Yutaka (Isehara JPX), Optical exposure method and device formed by the method.
  9. Toshio Kubota JP; Masumi Sugawara JP; Takehiro Horinaka JP; Fujimi Kimura JP, Polishing method and fabrication method of thin film magnetic head.
  10. Trausch Gnter E. (Munich DEX), Process for the manufacture of precision templates.
  11. Ikeda Tsutomu (Atsugi JPX) Watanabe Yutaka (Atsugi JPX) Suzuki Masayuki (Atsugi JPX) Hayashida Masami (Atsugi JPX) Fukuda Yasuaki (Hadano JPX) Ogura Shigetaro (Tama JPX) Iizuka Takashi (Atsugi JPX) N, Reflection type mask.
  12. Miyake Akira (Isehara JPX) Watanabe Yutaka (Isehara JPX), Reflection type mask and manufacture of microdevices using the same.
  13. Hayashida Masami (Yokohama JPX) Fukuda Yasuaki (Hadano JPX) Watanabe Yutaka (Isehara JPX), X-ray exposure apparatus.
  14. Watanabe Yutaka (Isehara JPX) Uno Shinichiro (Atsugi JPX) Ebinuma Ryuichi (Kawasaki JPX) Mitzusawa Nobutoshi (Yamato JPX) Uzawa Shunichi (Tokyo JPX), X-ray exposure apparatus.
  15. Hayashida Masami (Atsugi JPX) Watanabe Yutaka (Isehara JPX), X-ray lithography mask, light exposure apparatus and process therefore.
  16. Watanabe Yutaka (Atsugi JPX) Fukuda Yasuaki (Hadano JPX) Ogura Shigetaro (Tama JPX), X-ray mask support member, X-ray mask, and X-ray exposure process using the X-ray mask.
  17. Chiba Keiko,JPX ; Tsukamoto Masami,JPX ; Watanabe Yutaka,JPX ; Hara Shinichi,JPX ; Maehara Hiroshi,JPX, X-ray mask, and exposure method and apparatus using the same.
  18. Hayashida Masami (Yokohama JPX) Watanabe Yutaka (Isehara JPX), X-ray mirror, and x-ray exposure apparatus and device manufacturing method employing the same.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Yoshii, Masahito, Electro-optical device, wiring board, and electronic apparatus.
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