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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0817396 (2004-04-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 13 |
The disclosure relates to a vaporizer valve which accepts a carrier gas and a pressurized liquid and forms a mixture of the carrier gas and vaporized liquid. An internal cavity receives the carrier gas through a carrier aperture and the liquid through a liquid aperture, and the mixed gas and vapor a
What is claimed is: 1. A chemical vapor deposition system using a liquid reactant and a carrier gas, comprising: a chemical vapor deposition chamber having a gas inlet port, and a liquid reactant vaporizer having an outlet port connected to said chamber inlet port, said vaporizer comprising: a valv
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