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Lithography tool having a vacuum reticle library coupled to a vacuum chamber

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G06F-019/00
출원번호 US-0973897 (2004-10-27)
발명자 / 주소
  • del Puerto,Santiago
  • Eurlings,Markus F. A.
출원인 / 주소
  • ASML Holding N.V.
대리인 / 주소
    Sterne, Kessler, Goldstein &
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 5

초록

A lithography tool includes an exposure chamber and a reticle handler that exchanges a reticle being exposed as prescribed by the user of the lithography tool. The reticle handler can include a vacuum-compatible robot, a vacuum chamber to house the robot, a load-lock to input reticles and transition

대표청구항

What is claimed is: 1. A system, comprising: means for processing reticles received from a vacuum input section, the means for processing having a vacuum environment; means for storing the reticles having a vacuum environment; means for indexing the stored reticles; and means for retrieving a requ

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Ternes Norman A. (387 Minnesota Ave. St. Paul MN 55111), Method of producing lithographic plates.
  2. Ng, Dominic S., Migration imaging system.
  3. Catey Eric B. ; Hult David ; Puerto Santiago del ; Roux Stephen, Removable cover for protecting a reticle, system including and method of using the same.
  4. Hubert M. Segers NL; Rudolf M. Boon NL; Anton A. Bijnagte NL; Fransiscus M. Jacobs NL, Substrate handler for use in lithographic projection apparatus.
  5. Foley Michael S. (Beverly MA), Substrate handling system.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Phillips, Alton H., Filtered device container assembly with shield for a reticle.
  2. Yamamoto, Hajime, Reticle transport apparatus, exposure apparatus, reticle transport method, and reticle processing method.
  3. Hosek,Martin; Valasek,Michael, Three-degree-of-freedom parallel robot arm.
  4. Ono, Kazuya, Transport apparatus and exposure apparatus.
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