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Process for fabricating films of uniform properties on semiconductor devices

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01R-031/26
출원번호 US-0021248 (2004-12-21)
발명자 / 주소
  • Mercaldi,Garry Anthony
  • Powell,Don Carl
출원인 / 주소
  • Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소
    TraskBritt
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 27

초록

A process for forming a thin layer exhibiting a substantially uniform property on an active surface of a semiconductor substrate includes varying the temperature within a reaction chamber while a layer of a material is formed upon the semiconductor substrate. Varying the temperature within the reac

대표청구항

What is claimed is: 1. A process for forming a material layer on a semiconductor substrate, comprising: placing the semiconductor substrate into a reaction chamber; oscillating temperature within the reaction chamber during a heat-up phase before a reactant is introduced into the reaction chamber;

이 특허에 인용된 특허 (27)

  1. Utumi Yoshiharu (Hyogo JPX) Imai Takahiro (Hyogo JPX) Fujimori Naoji (Hyogo JPX), Aluminum nitride film substrate and process for producing same.
  2. Wang David N. (Cupertino CA) White John M. (Hayward CA) Law Kam S. (Union City CA) Leung Cissy (Union City CA) Umotoy Salvador P. (Pittsburg CA) Collins Kenneth S. (San Jose CA) Adamik John A. (San R, CVD of silicon oxide using TEOS decomposition and in-situ planarization process.
  3. Beinglass Israel ; Venkatesan Mahalingam, Deposition of silicon nitride thin films.
  4. Smith Keith W. ; Carver Charles E. ; Higdon Clarence J., Dielectric diffusion barrier.
  5. Parker Robert (411 Rolling Hills La. Alamo CA 94301), Flexible battery tester with a variable length resistive heater.
  6. Chiang Ping-Wang (Los Gatos CA), Low pressure chemical vapor deposition of silicon nitride films.
  7. Brors Daniel L. (Byron CA) Cook Robert C. (San Jose CA), Method and apparatus for cold wall chemical vapor deposition.
  8. Cheung David ; Feng Joe ; Deshpande Madhu ; Yau Wai-Fan ; Huang Judy H., Method for applying films using reduced deposition rates.
  9. Gevelber Michael A. ; Toledo-Quinones Manuel, Method for closed loop control of chemical vapor deposition process.
  10. Kao Yung-Chung (Dallas TX) Celii Francis G. (Dallas TX), Method for controlling thin film growth of compound semiconductors using mass spectrometer detectors.
  11. Okano Haruo,JPX ; Noguchi Sadahisa,JPX ; Sekine Makoto,JPX, Method for forming a film on a substrate by activating a reactive gas.
  12. Mercaldi Garry A. ; Nuttall Michael L. ; Thankur Randhir P. S., Method for optimization of thin film deposition.
  13. Tachi Shinichi (Sayama JPX) Tsujimoto Kazunori (Higashiyamato JPX) Okudaira Sadayuki (Ome JPX), Method of dry etching.
  14. Ahlburn Byron T. (Plano TX) Seha Thomas R. (Dallas TX), Method of forming a multilevel dielectric.
  15. Chappelow Ronald E. (Jericho VT) Hunkele Harry J. (South Hero VT), Method of forming deposits from reactive gases.
  16. Eguchi Kazuhiro (Yokohama JPX) Kiyotoshi Masahiro (Sagamihara JPX) Imai Keitaro (Kawasaki JPX), Method of manufacturing a perovskite thin film dielectric.
  17. Lee Chii-Chang, Method of manufacturing a semiconductor device with improved control of deposition layer thickness.
  18. Ellie Yieh ; Li-Qun Xia ; Srinivas Nemani, Methods and apparatus for shallow trench isolation.
  19. Roy Pradip K. (Reading PA), Multilayering process for stress accommodation in deposited polysilicon.
  20. Mercaldi, Garry Anthony; Powell, Don Carl, Process for fabricating films of uniform properties on semiconductor devices.
  21. Anderson Roger N, Profiled substrate heating utilizing a support temperature and a substrate temperature.
  22. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX), Real-time multi-zone semiconductor wafer temperature and process uniformity control system.
  23. Moslehi Mehrdad M. (Los Altos CA), Real-time multi-zone semiconductor wafer temperature and process uniformity control system.
  24. Liaw Hang M. (Scottsdale AZ) Seelbach Christian A. (Scottsdale AZ), Selective deposition of amorphous and polycrystalline silicon.
  25. Hey H. Peter W. (San Jose CA) Carlson David W. (Santa Clara CA), Silicon nitride deposition.
  26. Moulene, Daniel; Gourdon, Pierre, Temperature conditioning support for small objects such as semi-conductor components and thermal regulation process using said support.
  27. Johnsgard Kristian E. ; McDiarmid James, Thermal processing system with supplemental resistive heater and shielded optical pyrometry.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Surthi, Shyam, Semiconductor processing.
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