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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0191802 (2002-07-10) |
우선권정보 | JP-2001-213943(2001-07-13); JP-2001-233960(2001-08-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 29 인용 특허 : 2 |
When atmosphere inside a wafer carrier is replaced by introducing a gas into the wafer carrier from a gas inlet provided to the wafer carrier that can accommodate wafers. At the same time, the atmosphere inside the wafer carrier is sucked to make an inside pressure negative relative to an outside pr
The invention claimed is: 1. A method of replacing atmosphere inside a wafer carrier by introducing a gas into an inside of said wafer carrier from a first gas inlet provided to the wafer carrier accommodating wafers, comprising the steps of: placing a plurality of wafer carriers including said waf
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