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국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | B23P-011/02 |
미국특허분류(USC) | 029/450; 029/888.3; 277/910; 277/913 |
출원번호 | US-0327321 (2002-12-20) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 3 |
Very low moisture o-rings are prepared by placing standard o-rings under vacuum in an inert atmosphere for a period of time sufficient to achieve a desired outgassing rate. Heat is not applied. While the o-rings are under vacuum, moisture is removed from the o-rings via diffusion transport.
The invention claimed is: 1. A method for preparing a moisture-depleted o-ring comprising: a) calculating an amount of time required for an o-ring of known dimensions to be placed under vacuum to achieve a desired outgassing rate; b) placing the o-ring under vacuum for the calculated amount of time, wherein moisture in the o-ring is depleted while it is under vacuum and the o-ring is not heated while it is under vacuum; and c) removing the o-ring from the vacuum when the calculated amount of time has expired. 2. The method of claim 1 further comprisi...