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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0662892 (2003-09-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 36 |
The present invention provides passive sampling systems and methods for monitoring contaminants in a semiconductor processing system. In one embodiment, that passive sampling system comprises a collection device in fluid communication with a sample line that provides a flow of gas from a semiconduc
What is claimed is: 1. A system for determining and monitoring contamination in a photolithography instrument, comprising at least one collection device in fluid communication with a gas flow extending through an optical system of the photolithography instrument, the collection device having an ads
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