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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0910045 (2004-08-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 3 |
A thermal treatment process for improving the resistance of a flux grown, periodically poled KTiOPO4 crystal to photorefractive or photochromic damage comprising the steps of: i) heating said crystal from ambient temperature up to an annealing temperature in the range of from about 200째 C. to abo
The invention claimed is: 1. A thermal treatment process for improving the resistance of a flux grown, periodically poled KTiOPO4 crystal to photorefractive or photochromic damage comprising the steps of: i) heating said crystal from ambient temperature up to an annealing temperature T wherein T is
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