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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0985331 (2001-11-02) |
우선권정보 | JP-2000-351420(2000-11-17); JP-2000-364076(2000-11-30); JP-2000-384036(2000-12-18); JP-2000-394138(2000-12-26); JP-2001-003654(2001-01-11); JP-2001-008998(2001-01-17); JP-2001-023422(2001-01-31); JP-2001-026468() |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 87 인용 특허 : 21 |
The present invention relates to a substrate inspection apparatus for inspecting a pattern formed on a substrate by irradiating a charged particle beam onto the substrate. The substrate inspection apparatus comprises: an electron beam apparatus including a charged particle beam source for emitting a
What is claimed is: 1. A substrate inspection method comprising: emitting a primary charged particle beam from a charged particle beam source, wherein said charged particle beam source is actuated in a space charge limited region, wherein a shot noise reduction factor is smaller than 1 and said cha
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