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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0789319 (2004-02-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 286 |
The present invention includes a composition for a silicon-containing material used as an etch mask for underlying layers. More specifically, the silicon-containing material may be used as an etch mask for a patterned imprinted layer comprising protrusions and recessions. To that end, in one embodim
What is claimed is: 1. A composition for forming a layer on a surface, said composition comprising: hydroxyl-functional polysiloxane; hexamethoxymethylmelamine; toluenesulfonic acid; and methyl amyl ketone. 2. The composition as recited in claim 1 wherein said hydroxyl-functional polysiloxane is
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