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Apparatus to treat and inspect a substrate

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24C-003/12
  • B24C-003/00
출원번호 US-0301465 (2005-12-13)
발명자 / 주소
  • Jackson,David P.
출원인 / 주소
  • Cool Clean Technologies, Inc.
대리인 / 주소
    DuFault Law Firm, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 18

초록

An apparatus for treating a substrate with a cryogenic impingement fluid includes a protective enclosure defining an internal cavity, a cryogenic fluid applicator positioned within the internal cavity and a snow generation system connected to the cryogenic fluid applicator. The snow generation syste

대표청구항

The invention claimed is: 1. An apparatus for treating a substrate with a cryogenic impingement fluid comprising: a protective enclosure defining an internal cavity; a cryogenic fluid applicator positioned within the internal cavity; and a snow generation system connected to the cryogenic fluid app

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Brandt Werner V. ; Bowers Charles W., Apparatus for cleaning and testing precision components of hard drives and the like.
  4. Lewis, Paul E.; Ahmadi, Goodarz; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Apparatus for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  5. Opel, Alan E., Apparatus to provide dry ice in different particle sizes to an airstream for cleaning of surfaces.
  6. Krone-Schmidt Wilfried, CO2jet spray nozzles with multiple orifices.
  7. Krone-Schmidt Wilfried, Carbon dioxide jet spray pallet cleaning system.
  8. Cherry Roger L. (West Linn OR) Burke Joseph J. (Portland OR) Platt Christopher W. (Portland OR) Cowles Craig H. (Tigard OR), High-purity cleaning system, method, and apparatus.
  9. Banerjee, Souvik; Chung, Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
  10. Mains Jr. Gilbert L. (2642 Joelle Dr. Toledo OH 43617), Method for material removal.
  11. Ahmadi, Goodarz; Lewis, Paul E.; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Methods for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  12. Boumerzoug, Mohamed; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid, Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  13. Bowers Charles W., Photoresist and redeposition removal using carbon dioxide jet spray.
  14. McDermott Wayne T. (Allentown PA) Ockovic Richard C. (Allentown PA) Wu Jin J. (Ossining NY) Cooper Douglas W. (Millwood NY) Schwarz Alexander (Allentown PA) Wolfe Henry L. (Pleasant Valley NY), Surface cleaning using a cryogenic aerosol.
  15. Peterson Ronald V. (Thousand Oaks CA) Krone-Schmidt Wilfried (Fullerton CA), System for precision cleaning by jet spray.
  16. Gary R. Poling ; Orvile L. Lindsey ; Ronald J. Payne, Vision enhanced under water waterjet.
  17. Bowers Charles W., Wafer cassette cleaning using carbon dioxide jet spray.
  18. Borden Michael R. ; Kosic Thomas J. ; Bowers Charles W., Wafer cleaning using a laser and carbon dioxide snow.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Jackson, David; Marian, Liviu; Soto, Felipe; Lee, John, CO2 composite spray method and apparatus.
  2. Ficarra, Richard P.; McGraw, Thomas C.; Reid, Gordon B.; Bryl, Derek A., Dry ice belt cleaning system for laser cutting device.
  3. Jackson, David P., Method and apparatus for cutting and cleaning a superhard substrate.
  4. Jackson, David P.; Endres, Jeffrey D., Particle-plasma ablation process.
  5. Jackson, David P.; Endres, Jeffrey D., Particle-plasma ablation process for polymeric ophthalmic substrate surface.
  6. Huang, Ting-Hui, Surface treatment apparatus.
  7. Robidoux, Roger, Walk-up workstation employing ionizing air nozzles and insulating panels.
  8. Brown, Timothy Ronald; Hester, Grant Nicholas; Cruz, Dennis Quinto; Harrold, David Maxwell; Geittmann, Hans John, Workpiece cleaning.
  9. Cruz, Dennis Quinto; Harrold, David Maxwell; Hester, Grant Nicholas; Brown, Timothy Ronald, Workpiece cleaning.
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