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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0630792 (2003-07-31) |
우선권정보 | JP-2000-036609(2000-02-15); JP-2001-017289(2001-01-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 12 |
An apparatus for forming a pattern by using a photomask including both a minute aperture where a main component of a transmitted light is an evanescent light and an aperture where a main component of a transmitted light is a propagating light. The apparatus includes a sample stand for placing a subs
What is claimed is: 1. An apparatus for forming a pattern, said apparatus comprising: a photomask for light exposure provided with both a first aperture having a minute width where a main component of transmitted light is evanescent light and a second aperture having a larger width than that of sai
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