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Bathochromic mono-and bis-acylphosphine oxides and sulfides and their use as photoinitiators 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C07F-009/02
  • C07F-009/00
출원번호 US-0485836 (2002-08-13)
우선권정보 CH-1542/01(2001-08-21)
국제출원번호 PCT/EP02/009045 (2002-08-13)
§371/§102 date 20040204 (20040204)
국제공개번호 WO03/019295 (2003-03-06)
발명자 / 주소
  • Wolf,Jean Pierre
  • Hug,Gebhard
출원인 / 주소
  • Ciba Specialty Chemicals Corporation
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 6

초록

Compounds of formula (I), wherein A is S or O; x is 0 or 1; a is SR10 or N(R11)(R12); R1 and R 2 are C1-C24alkyl, OR10, CF3 or halogen; R3, R4 and R5 are hydrogen, C 1-C24alkyl, OR10 or halogen; or two of the radicals R11 R21 R31 R4 and/or R9 together form C1-C2oalkylene uninterrupted or interrupted

대표청구항

What is claimed is: 1. A compound of formula I wherein A is S or O; x is 0 or 1; Q is SR10 or N(R11)(R12); R1 and R2 are each independently of the other C1-C24alkyl, OR10, CF3 or halogen; R3, R4 and R5 are each independently of the others hydrogen, C1-C24alkyl, OR10 or halogen; or two of the rad

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Kleiner Hans-Jerg (Kronberg/Taunus DEX), Alkyl aryl arylphosphonites, process for the preparation thereof and use thereof.
  2. Leppard David George,CHX ; Kohler Manfred,DEX ; Valet Andreas,DEX, Alkylphenylbisacylphosphine oxides and photoinitiator mixtures.
  3. Ellrich Klaus (Munich DEX) Herzig Christian (Seefeld DEX), Bisacylphosphine oxides, the preparation and use thereof.
  4. Wolf, Jean-Pierre; Hug, Gebhard, Organometallic monoacylalkylphosphines.
  5. Jean-Pierre Wolf CH; Beat Michael Aebli CH; Gebhard Hug CH, Organometallic monoacylarylphosphines.
  6. Lechtken Peter (Frankenthal DEX) Bronstert Bernd (Frankenthal DEX) Hoffmann Gerhard (Otterstadt DEX) Vyvial Rudolf (Ludwigshafen DEX) Lynch John (Ludwigshafen DEX), Photopolymerizable recording composition containing acylphosphine oxide photoinitiator.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Blömker, Tobias; Stepputtis, Manfred; Maletz, Reinhard; Plaumann, Manfred Thomas, Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element.
  2. Blömker, Tobias; Stepputtis, Manfred; Plaumann, Manfred Thomas; Maletz, Reinhard, Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element as a sealing material.
  3. Blömker, Tobias; Stepputtis, Manfred; Maletz, Reinhard; Plaumann, Manfred Thomas; Fontein, Nils, Composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element for filling and/or sealing a root canal.
  4. Blomker, Tobias; Fontein, Nils; Stepputtis, Manfred; Plaumann, Manfred Thomas, Dental composite materials comprising tricyclic plasticizers.
  5. Fontein, Nils; Luebbe, Gerrit; Plaumann, Manfred Thomas, Free radically curable dental compositions.
  6. Plaumann, Manfred Thomas; Hoffmann, Klaus-Peter; Bloemker, Tobias; Willner, Alexander, Kit and method for indirect chairside production of composite inlays.
  7. Blömker, Tobias; Stepputtis, Manfred; Maletz, Reinhard; Plaumann, Manfred Thomas, Lacquer composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element.
  8. Lee, Chang Min; Choi, Seung Jib; Kwon, Ji Hye; Ha, Kyoung Jin; Lee, Yeon Soo, Photocurable composition, protective layer including the same, and encapsulated apparatus including the same.
  9. Kumaki, Takashi; Miyasaka, Masahiro; Ichihashi, Yasuhisa; Ito, Toshiki; Kaji, Makoto, Photosensitive element, resist pattern formation method and printed wiring board production method.
  10. Blömker, Tobias; Stepputtis, Manfred; Plaumann, Manfred Thomas; Maletz, Reinhard; Fontein, Nils, Polymerizable compounds comprising a polyalicylic structure element.
  11. Blömker, Tobias; Stepputtis, Manfred; Plaumann, Manfred Thomas, Polymerizable phosphoric acid derivatives comprising a polyalicylic structure element.
  12. Fontein, Nils; Luebbe, Gerrit; Oldenburger, Daniel; Plaumann, Manfred Thomas, Use of free radically curable compositions in additive manufacturing methods.
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