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Oxide sintered body, sputtering target, transparent conductive thin film and manufacturing method therefor

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01B-001/08
  • B32B-015/04
  • C23C-014/00
출원번호 US-0115971 (2005-04-27)
우선권정보 JP-2004-131476(2004-04-27)
발명자 / 주소
  • Abe,Yoshiyuki
  • Nakayama,Tokuyuki
  • Ohara,Go
  • Wake,Riichiro
출원인 / 주소
  • Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Katten Muchin Rosenman LLP
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 0

초록

There is provided an amorphous transparent conductive thin film with a low resistivity, a low absolute value for the internal stress of the film, and a high transmittance in the visible light range, an oxide sintered body for manufacturing the amorphous transparent conductive thin film, and a sputte

대표청구항

What is claimed is: 1. An oxide sintered body comprising indium, tungsten and zinc, wherein tungsten is contained at a W/In atomic number ratio of 0. 004 to 0.023, zinc is contained at a Zn/In atomic number ratio of 0.004 to 0.100, and resistivity is 1 k ohm-cm or less. 2. An oxide sintered body

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Miller, Steven A.; Gaydos, Mark; Shekhter, Leonid N.; Gulsoy, Gokce, Dynamic dehydriding of refractory metal powders.
  2. Miller, Steven A.; Gaydos, Mark; Shekhter, Leonid N.; Gulsoy, Gokce, Dynamic dehydriding of refractory metal powders.
  3. Miller, Steven A.; Kumar, Prabhat; Wu, Richard; Sun, Shuwei; Zimmermann, Stefan; Schmidt-Park, Olaf, Fine grained, non banded, refractory metal sputtering targets with a uniformly random crystallographic orientation, method for making such film, and thin film based devices and products made therefrom.
  4. Dary, Francois-Charles; Gaydos, Mark; Loewenthal, William; Miller, Steven A.; Rozak, Gary; Volchko, Scott Jeffrey; Zimmermann, Stefan; Stawovy, Michael Thomas, Large-area sputtering targets.
  5. Miller, Steven A.; Shekhter, Leonid N.; Zimmermann, Stefan, Methods of joining metallic protective layers.
  6. Miller, Steven A.; Shekhter, Leonid N.; Zimmermann, Stefan, Methods of joining metallic protective layers.
  7. Volchko, Scott Jeffrey; Zimmermann, Stefan; Miller, Steven A.; Stawovy, Michael Thomas, Methods of manufacturing high-strength large-area sputtering targets.
  8. Loewenthal, William; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets.
  9. Miller, Steven A.; Dary, Francois-Charles; Gaydos, Mark; Rozak, Gary, Methods of manufacturing large-area sputtering targets by cold spray.
  10. Volchko, Scott Jeffrey; Loewenthal, William; Zimmermann, Stefan; Gaydos, Mark; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints.
  11. Volchko, Scott Jeffrey; Loewenthal, William; Zimmermann, Stefan; Gaydos, Mark; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints.
  12. Miller, Steven A.; Kumar, Prabhat; Wu, Rong-chein Richard; Sun, Shuwei; Zimmermann, Stefan; Schmidt-Park, Olaf, Methods of rejuvenating sputtering targets.
  13. Shekhter, Leonid N.; Miller, Steven A.; Haywiser, Leah F.; Wu, Rong-Chein R., Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof.
  14. Yano, Koki; Inoue, Kazuyoshi; Tanaka, Nobuo; Kaijo, Akira; Umeno, Satoshi, Sputtering target, transparent conductive film and transparent electrode.
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