검색연산자 | 기능 | 검색시 예 |
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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | B24C-001/10 C21D-007/06 C21D-007/00 |
미국특허분류(USC) | 072/053; 029/090.7; 451/039 |
출원번호 | US-0944545 (2004-09-17) |
우선권정보 | US-PCT/US03/08130(2003-03-14) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 7 |
The shot peening method and apparatus (FIG. 13) of the present invention utilizes control of the shot peening coverage to provide higher surface compression and comparable depth of compression to conventional 100% coverage peening but with reduced cold working providing improved thermal stability and reduction in shot peening time and cost. A preferred embodiment of this invention employs x-ray diffraction (FIG. 13) residual stress and percent cold work determinated by line broadening to establish the optimal degree of coverage for a given material and s...
What is claimed is: 1. A method of inducing compressive residual stress in the surface of a part comprising the steps of determining a depth and magnitude of compressive residual stress and percent cold work for a range of shot peening coverage for the part to be shot peened; selecting the desired shot peening time required to achieve a coverage for producing the desired depth and magnitude of the compressive residual stress and cold working for the part; and performing shot peening along the surface of the part for the desired shot peening time. 2. T...