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Parallelism adjustment device 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B29C-059/02
출원번호 US-0663655 (2003-09-17)
우선권정보 TW-92208079 U(2003-05-02)
발명자 / 주소
  • Chung,Yong Chen
  • Lin,Chia Hung
  • Chen,Chuan Feng
  • Hsu,Chia Chun
  • Feng,Wen Hung
  • Chen,Ming Chi
출원인 / 주소
  • Industrial Technology Research Institute
대리인 / 주소
    Rabin & Berdo, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 27  인용 특허 : 6

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

대표청구항이 없습니다.

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Gutowski Timothy G. (Newton MA) Dillon Gregory P. (Erie PA) Chey Sukyoung (Cambridge MA) Li Haorong (Cambridge MA), Apparatus for diaphragm forming.
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  2. Mueller Lutz,DEX ; Reuther Frank,DEX ; Springer Alf,DEX ; Heckele Matthias,DEX ; Biedermann Hans,DEX, Apparatus for molding microsystem structures.
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  3. Stephen Y. Chou, Fluid pressure imprint lithography.
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  4. Miyashita Akimi (Toride JPX) Fujii Mutsumasa (Ibaraki-ken JPX) Mishina Haruo (Ushiku JPX), Hot press with pressure vessels to uniformly distribute pressure to the work piece.
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  5. Gorczyca, Thomas Bert; Meyer, Laura Jean; Niemeyer, Matthew Frank, Method and apparatus for producing data storage media.
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  6. Burgin Timothy P. ; Choong Vi-en ; Maracas George N. ; Mance Thomas M., Printing apparatus with inflatable means for advancing a substrate towards the stamping surface.
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이 특허를 인용한 특허 (27)

  1. Lazar, John MacKay; Schwantes, Todd Arlin; Lidington, Frederick Edward Charles, Activator means for pre-applied adhesives.
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  2. Lazar, John MacKay; Schwantes, Todd Arlin; Lidington, Frederick Edward Charles, Activator means for pre-applied adhesives.
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  3. Heidari, Bakak, Apparatus for pattern replication with intermediate stamp.
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  4. Harper, Bruce M., Disk alignment apparatus and method for patterned media production.
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  5. Harper, Bruce M.; Saito, Toshiyuki Max, Imprint embossing alignment system.
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  6. Harper, Bruce M.; Saito, Toshiyuki Max, Imprint embossing alignment system.
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  7. Wu, Wei; Tong, William M.; Gao, Jun; Picciotto, Carl, Imprint lithography apparatus and method employing an effective pressure.
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  8. Iimura, Yukio; Kanemoto, Masakazu; Kokubo, Mitsunori, Imprinting apparatus.
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  9. Treves, David; Dorsey, Paul C., Imprinting method with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media.
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  10. Song, Tae Joon, Method of forming pattern.
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  11. La Tulipe, Jr., Douglas C.; Steen, Steven E.; Topol, Anna W., Method, system, program product for bonding two circuitry-including substrates and related stage.
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  12. Nilsson, Jakob; Keil, Matthias; Ring, Johan; Heidari, Babak, Methods and processes for modifying polymer material surface interactions.
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  13. Chen, Shou Ren; Chen, Chuan Feng; Ho, Yu Lun; Wu, Jen Hua; Wang, Wei Han; Chen, Lai Sheng, Microimprint/nanoimprint uniform pressing apparatus.
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  14. Kasumi, Kazuyuki, Pattern forming apparatus.
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  15. Treves, David; Dorsey, Paul C., Press system for nano-imprinting of recording media with a two step pressing method.
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  16. Treves, David; Dorsey, Paul C., Press system with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media.
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  17. Treves, David; Dorsey, Paul C., Press system with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media.
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  18. Treves, David; Dorsey, Paul C.; Siu, Calvin Tue Chiu, Press system with interleaved embossing foil holders for nano-imprinting of recording media.
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  19. Treves, David; Dorsey, Paul C.; Siu, Calvin Tue Chiu, Press system with interleaved embossing foil holders for nano-imprinting of recording media.
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  20. Keil, Matthias; Nilsson, Jakob; Ring, Johan; Heidari, Babak, Process and method for modifying polymer film surface interaction.
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  21. Saha, Sourabh Kumar; Culpepper, Martin L., System for passive alignment of surfaces.
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  22. Kokubo,Mitsunori; Iimura,Yukio; Kanemoto,Masakazu, Transcript apparatus.
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  23. Kokubo,Mitsunori; Ishibashi,Kentaro, Transcript apparatus.
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  24. Kokubo,Mitsunori; Urushibata,Kazunori; Matsubayashi,Haruyuki, Transcript apparatus.
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  25. Kokubo, Mitsunori; Iimura, Yukio; Kanemoto, Masakazu; Ishibashi, Kentaro, Transfer apparatus having gimbal mechanism and transfer method using the transfer apparatus.
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  26. Kokubo, Mitsunori; Iimura, Yukio; Kanemoto, Masakazu; Ishibashi, Kentaro, Transfer apparatus having gimbal mechanism and transfer method using the transfer apparatus.
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  27. Hung,Jung Chung; Hung,Ching Hua, Uniform pressing apparatus for use in a micro-nano imprint process.
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