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Pulse thermal processing of functional materials using directed plasma arc 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B23K-010/00
출원번호 US-0903071 (2004-07-30)
발명자 / 주소
  • Ott,Ronald D.
  • Blue,Craig A.
  • Dudney,Nancy J.
  • Harper,David C.
출원인 / 주소
  • UT Battelle, LLC
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 9

초록

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대표청구항

대표청구항이 없습니다.

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Westmoreland Donald (Boise ID), CVD method for semiconductor manufacture using rapid thermal pulses.
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  2. Camm David M. (Vancouver CAX) Kjorvel Arne (Vancouver CAX) Housden Anthony J. (North Vancouver CAX) Halpin Nicholas P. (Vancouver CAX) Parfeniuk Dean A. (Vancouver CAX) Frenz Andy J. (Vancouver CAX), High intensity radiation apparatus and fluid recirculating system therefor.
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  3. Somit Talwar ; Yun Wang ; Michael O. Thompson, High-speed semiconductor transistor and selective absorption process forming same.
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  4. Kojima Yoshitaka (Hitachi JPX) Ohnaka Noriyuki (Katsuta JPX) Yamaguchi Shizuka (Katsuta JPX) Nakashima Shoichi (Hitachi JPX) Ogawa Sai (Tohkai JPX) Doi Masayuki (Katsuta JPX) Kirihara Seishin (Hitach, Machine on ground provided with heat resistant wall used for isolating from environment and heat resistant wall used the.
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  5. Asano Hiroshi (Ichikawa JPX) Shimamune Takayuki (Ichihara JPX) Goto Toshiki (Ichihara JPX) Nitta Hideo (Ichihara JPX) Hosonuma Masashi (Ichihara JPX), Method for forming an anticorrosive coating on a metal substrate.
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  6. Blue, Craig A.; Sikka, Vinod K.; Ohriner, Evan K., Method of high-density foil fabrication.
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  7. Sikka Vinod K. ; Blue Craig A. ; Ohriner Evan Keith, Rapid infrared heating of a surface.
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  8. Makita, Naoki; Moriguchi, Masao, Semiconductor device and method for fabricating the device.
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  9. Hiroki Adachi JP; Akira Takenouchi JP; Takeshi Fukada JP; Hiroshi Uehara JP; Yasuhiko Takemura JP, Semiconductor device and method for manufacturing the same.
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이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Schnipke, Kevin S.; Kawczak, Alex W.; Vais, Philip; Schupska, Peter; Hahnlen, Ryan M.; Dowd, Joshua P., Compositions and integrated processes for advanced warm-forming of light metal alloys.
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  2. Schroder, Kurt A.; McCool, Steve; Hamill, Denny; Wilson, Dennis; Furlan, Wayne; Walter, Kevin; Willauer, Darrin; Martin, Karl, Electrical, plating and catalytic uses of metal nanomaterial compositions.
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  3. Burrows, Keith James; Myli, Kari B., Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology.
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  4. Blue, Craig A.; Clemens, Art; Duty, Chad E.; Harper, David C.; Ott, Ronald D.; Rivard, John D.; Murray, Christopher S.; Murray, Susan L.; Klein, Andre R., High volume method of making low-cost, lightweight solar materials.
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  5. Burrows, Keith James; Myli, Kari B., Insulating glass unit transparent conductive coating technology.
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  6. Burrows, Keith James; Myli, Kari B., Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology.
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  7. Schroder, Kurt A.; Martin, Karl M.; Jackson, Doug K.; McCool, Steven C., Method and apparatus for curing thin films on low-temperature substrates at high speeds.
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  8. Sherman, Andrew J.; Engleman, P. Greg; Medanic, Mario; Gilbert, Kurt E., Method and apparatus for forming clad metal products.
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  9. Dunbar,Timothy D., Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles.
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  10. Duty, Chad E.; Bennett, Charlee J C; Moon, Ji-Won; Phelps, Tommy J.; Blue, Craig A.; Dai, Quanqin; Hu, Michael Z.; Ivanov, Ilia N.; Jellison, Jr., Gerald E.; Love, Lonnie J.; Ott, Ronald D.; Parish, Chad M.; Walker, Steven, Methods for producing complex films, and films produced thereby.
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  11. Quick, Nathaniel R; Joshi, Pooran C; Duty, Chad Edward; Jellison, Jr., Gerald Earle; Angelini, Joseph Attilio, Processing of insulators and semiconductors.
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  12. Vogli, Evelina; Sherman, Andrew J.; Glasgow, Curtis P., Ternary ceramic thermal spraying powder and method of manufacturing thermal sprayed coating using said powder.
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  13. Joshi, Pooran C.; Killough, Stephen M.; Kuruganti, Phani Teja, Wireless sensor platform.
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