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Method for treating substrates for microelectronics and substrates obtained by said method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/48
  • H01L-021/02
출원번호 US-0063867 (2005-02-24)
우선권정보 FR-99 10668(1999-08-20)
발명자 / 주소
  • Barge,Thierry
  • Ghyselen,Bruno
  • Iwamatsu,Toshiaki
  • Naruoka,Hideki
  • Furihata,Junichiro
  • Mitani,Kiyoshi
출원인 / 주소
  • S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
대리인 / 주소
    Winston & Strawn LLP
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 13

초록

초록이 없습니다.

대표청구항

대표청구항이 없습니다.

이 특허에 인용된 특허 (13)

  1. Bhat Suresh A. (Fremont CA), Controlled, gas phase process for removal of trace metal contamination and for removal of a semiconductor layer.
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  2. Christophe Maleville FR; Thierry Barge FR; Bernard Aspar FR; Hubert Moriceau FR; Andre-Jacques Auberton-Herve FR, Heat treatment method for semiconductor substrates.
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  3. Ryum Byung-Ryul (Daejeon KRX) Han Tae-Hyeon (Daejeon KRX) Lee Soo-Min (Daejeon KRX) Cho Deok-Ho (Daejeon KRX) Kang Jin-Young (Daejeon KRX), Method for fabricating semiconductor device isolation region using a trench mask.
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  4. Aga Hiroji,JPX ; Kobayashi Norihiro,JPX ; Mitani Kiyoshi,JPX, Method for heat treatment of SOI wafer and SOI wafer heat-treated by the method.
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  5. Malik Igor J., Method for surface treatment of substrates.
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  6. Yokokawa Isao,JPX ; Tate Naoto,JPX ; Mitani Kiyoshi,JPX, Method of fabricating an SOI wafer and SOI wafer fabricated by the method.
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  7. Aga Hiroji,JPX ; Mitani Kiyoshi,JPX ; Inazuki Yukio,JPX, Method of fabricating an SOI wafer and SOI wafer fabricated thereby.
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  8. Fronius Hans (Stuttgart DEX) Fischer Albrecht (Lochgau DEX) Ploog Klaus (Stuttgart DEX), Method of preparing semiconductor substrates.
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  9. Sakaguchi, Kiyofumi; Yonehara, Takao; Sato, Nobuhiko, Process for manufacturing a semiconductor substrate as well as a semiconductor thin film, and multilayer structure.
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  10. Bruel Michel (Veurey FRX), Process for the production of thin semiconductor material films.
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  11. Iwamatsu Toshiaki,JPX ; Yamaguchi Yasuo,JPX ; Maeda Shigenobu,JPX ; Miyamoto Shoichi,JPX ; Furukawa Akihiko,JPX ; Inoue Yasuo,JPX, Semiconductor device.
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  12. Iwamatsu Toshiaki,JPX ; Ipposhi Takashi,JPX, Semiconductor device and method of manufacturing the same.
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  13. Yoshida Yoshiko,JPX ; Naruoka Hideki,JPX ; Kimura Yasuhiro,JPX ; Yamaguchi Yasuo,JPX ; Iwamatsu Toshiaki,JPX ; Hirano Yuuichi,JPX, Semiconductor substrate processing method.
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이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Sadaka, Mariam; Radu, Ionut, Methods of providing thin layers of crystalline semiconductor material, and related structures and devices.
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