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Process for making photonic crystal circuits using an electron beam and ultraviolet lithography combination

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02B-006/00
출원번호 US-0504518 (2003-02-14)
등록번호 US-7255804 (2007-08-14)
국제출원번호 PCT/US03/004682 (2003-02-14)
§371/§102 date 20040813 (20040813)
국제공개번호 WO03/071587 (2003-08-28)
발명자 / 주소
  • Prather,Dennis W.
  • Murakowski,Janusz
출원인 / 주소
  • University of Delaware
대리인 / 주소
    Connolly Bove Lodge & Hutz, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 10

초록

A process for making photonic crystal circuit and a photonic crystal circuit consisting of regularly-distributed holes in a high index dielectric material, and controllably-placed defects within this lattice, creating waveguides, cavities, etc. for photonic devices. The process is based upon the dis

대표청구항

What is claimed is: 1. A process for making a photonic crystal circuit, comprising: depositing an ultraviolet positive, electron beam negative photoresist layer on a substrate; patterning defects into portions of the photoresist layer by exposing the portions of the photoresist layer to an electron

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Lin, Chin-Hsiang, Combined E-beam and optical exposure semiconductor lithography.
  2. Merritt David Paul ; Moreau Wayne Martin ; Wood Robert Lavin, Highly sensitive positive photoresist composition.
  3. Cowan James J. (Lexington MA), Method and apparatus for exposing photosensitive material.
  4. Louis Joseph Dogue, Isabelle; Hatate, Hitoshi; Kagotani, Tsuneo; Aoyama, Tsutomu, Method for forming fine exposure patterns using dual exposure.
  5. Yasuhiko Sato JP, Method of forming a pattern by making use of hybrid exposure.
  6. Kobayashi Koichi (Yokohama JPX) Takahashi Yasushi (Kawasaki JPX), Method of forming fine resist pattern in electron beam or X-ray lithography.
  7. Mochiji Kozo (Tachikawa JPX) Maruyama Yozi (Hachioji JPX) Okazaki Shinji (Urawa JPX) Murai Fumio (Tokyo JPX), Method of forming patterns.
  8. Hanawa Tetsuro (Hyogo JPX) Op de Beeck Maria (Hyogo JPX), Method of manufacturing semiconductor device.
  9. Koyama, Tomoko, Optical multiplexing and demultiplexing device, optical communication apparatus, and optical communication system.
  10. Fink, Yoel; Thomas, Edwin L., Polymeric photonic band gap materials.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Song, Stanley Seungchul; Xu, Jeffrey Junhao; Yang, Da; Yeap, Choh Fei, Electron-beam (E-beam) based semiconductor device features.
  2. Bandhauer, Todd M.; Reinke, Michael J.; Valensa, Jeroen, High temperature fuel cell system with integrated heat exchanger network.
  3. Bandhauer, Todd M.; Reinke, Michael J.; Valensa, Jeroen, High temperature fuel cell system with integrated heat exchanger network.
  4. Bandhauer, Todd M.; Reinke, Michael J.; Valensa, Jeroen, High temperature fuel cell system with integrated heat exchanger network.
  5. Murakowski,Janusz; Prather,Dennis W., Method for fabricating optical devices in photonic crystal structures.
  6. Lee, Eun-kyung; Choi, Byoung-Iyong; Ahn, Pil-soo; Kim, Jun-young; Jin, Young-gu, Method of manufacturing silicon optoelectronic device, silicon optoelectronic device manufactured by the method, and image input and/or output apparatus using the silicon optoelectronic device.
  7. Lee, Eun-kyung; Choi, Byoung-iyong; Ahn, Pil-soo; Kim, Jun-young; Jin, Young-gu, Method of manufacturing silicon optoelectronic device, silicon optoelectronic device manufactured by the method, and image input and/or output apparatus using the silicon optoelectronic device.
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