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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0825696 (2004-04-15) |
등록번호 | US-7262418 (2007-08-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 9 |
A multi-charged particle beam tool for semiconductor wafer inspection or lithography includes an array of electron beam columns, each having its own electron or ion source. The objective lenses of the various electron beam columns, while each has its own pole piece, share a common single magnetic co
The invention claimed is: 1. A method of inspecting a workpiece, comprising generating an array of charged particle beams; passing each of the charged particle beams through one of a plurality of pole pieces, there being one pole piece associated with each charged particle beam, and through a singl
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